| 摘要 | 第1-4页 |
| ABSTRACT | 第4-5页 |
| 目录 | 第5-6页 |
| 第一章 类金刚石(DLC)薄膜概述 | 第6-17页 |
| §1.1 引言 | 第6-14页 |
| §1.2 类金刚石近年来的研究热点和存在的技术问题 | 第14-16页 |
| §1.3 实验研究的内容、目的及方法 | 第16-17页 |
| 第二章 DLC膜的理论研究 | 第17-27页 |
| §2.1 等离子体简介 | 第17-20页 |
| §2.2 PECVD简介 | 第20-22页 |
| §2.3 类金刚石薄膜的生长机理模型 | 第22-23页 |
| §2.4 类金刚石的表征方法 | 第23-27页 |
| 第三章 DLC膜的制备和工艺 | 第27-31页 |
| §3.1 实验设备 | 第27-28页 |
| §3.2 实验材料的选择 | 第28页 |
| §3.3 实验前的处理 | 第28页 |
| §3.4 RF-PECVD制备类金刚石 | 第28-31页 |
| 第四章 结果分析与讨论 | 第31-47页 |
| §4.1 入射功率对薄膜沉积速率的影响 | 第31-32页 |
| §4.2 薄膜的组分表征 | 第32-36页 |
| §4.3 Raman光谱分析 | 第36-41页 |
| §4.4 表面形貌分析 | 第41-44页 |
| §4.5 硬度分析 | 第44-47页 |
| 总结 | 第47-49页 |
| 致谢 | 第49-50页 |
| 参考文献 | 第50-53页 |