| 1 绪论 | 第1-16页 |
| ·本论文的研究目的和意义 | 第10页 |
| ·印染废水的来源及水质特征 | 第10-11页 |
| ·印染废水处理方法的研究及应用进展 | 第11-15页 |
| ·吸附法 | 第11-12页 |
| ·絮凝法 | 第12页 |
| ·生化法 | 第12-13页 |
| ·电解法 | 第13页 |
| ·氧化法 | 第13-15页 |
| ·本论文的研究内容 | 第15-16页 |
| 2 半导体多相光催化氧化进展 | 第16-33页 |
| ·半导体光催化氧化法 | 第16-20页 |
| ·有机污染废水的处理 | 第17-19页 |
| ·无机污染废水的处理 | 第19-20页 |
| ·半导体光催化反应机理 | 第20-22页 |
| ·半导体光催化剂的种类 | 第22-23页 |
| ·半导体光催化剂的制备 | 第23-24页 |
| ·溶胶凝胶法(Sol-gel) | 第23页 |
| ·液相化学沉淀法 | 第23-24页 |
| ·化学气相沉淀法(CVD) | 第24页 |
| ·影响光催化氧化的因素 | 第24-25页 |
| ·光源和光强 | 第24页 |
| ·pH值 | 第24-25页 |
| ·外加氧化剂 | 第25页 |
| ·盐 | 第25页 |
| ·温度 | 第25页 |
| ·提高非光催化反应效率的途径 | 第25-30页 |
| ·纳米级TiO_2的研制 | 第25-27页 |
| ·TiO_2的改性研究 | 第27-30页 |
| ·存在的问题及前景展望 | 第30-33页 |
| ·光催化氧化存在的问题 | 第30页 |
| ·光催化氧化的前景展望 | 第30-33页 |
| 3 复合光催化剂的制备与结构表征 | 第33-42页 |
| ·复合光催化剂的制备方法 | 第33-35页 |
| ·实验仪器 | 第33页 |
| ·实验试剂 | 第33-34页 |
| ·实验步骤 | 第34-35页 |
| ·复合光催化剂的结构表征 | 第35-42页 |
| ·透射电镜分析(TEM) | 第35-36页 |
| ·X射线衍射(XRD) | 第36-42页 |
| 4 光催化活性评价 | 第42-73页 |
| ·实验方法 | 第42-47页 |
| ·实验仪器与装置 | 第42-43页 |
| ·实验试剂 | 第43页 |
| ·实验步骤 | 第43-44页 |
| ·分析方法 | 第44-47页 |
| ·结果与讨论 | 第47-73页 |
| ·RuO_2／TiO_2光催化降解直接耐晒黑G的研究 | 第47-58页 |
| ·RuO_2／La_2O_3／TiO_2对直接耐晒黑G的降解研究 | 第58-66页 |
| ·RuO_2／La_2O_3／TiO_2对直接红棕的降解研究 | 第66-73页 |
| 5 实际印染废水的降解研究 | 第73-76页 |
| ·废水来源 | 第73页 |
| ·分析方法 | 第73-74页 |
| ·结果讨论 | 第74-76页 |
| 6 结论与建议 | 第76-81页 |
| 致谢 | 第81-82页 |
| 参考文献 | 第82-89页 |
| 附录: 作者在攻读硕士期间所发表的论文 | 第89页 |
