薄膜集成磁件结构拓扑优化与制备工艺研究

致谢	第1-5页
摘要	第5-6页
Abstract	第6-9页
1 绪论	第9-15页
·磁性元器件的发展	第9-10页
·MEMS 技术和薄膜制造技术简介	第10-12页
·薄膜磁件的国内外发展动态	第12-13页
·本文研究内容	第13-14页
·本章小结	第14-15页
2 薄膜阵列式集成磁件的方案设计与优化	第15-31页
·绕组与磁芯组合方案的研究	第16-19页
·不同形状磁芯的损耗研究	第16-19页
·磁芯厚度对阵列式集成磁件损耗的影响研究	第19页
·薄膜阵列式磁芯组合结构方案的研究	第19-23页
·薄膜阵列式磁芯组合方案电磁损耗有限元分析	第23-30页
·本章小结	第30-31页
3 薄膜磁控溅射制备技术及测试方法	第31-38页
·磁控溅射法原理及特点	第31-36页
·超高真空多功能溅射简介	第31-33页
·磁控溅射基本原理	第33-34页
·射频磁控溅射的成膜特点	第34-36页
·磁性薄膜性能测试技术	第36-37页
·薄膜结构及成分分析	第36页
·薄膜表面形貌及厚度测量	第36-37页
·薄膜磁学性能的测试	第37页
·本章小节	第37-38页
4 集成磁件薄膜的样品制备与测试	第38-52页
·靶材制备工艺与技术要求	第38-42页
·靶材的类型	第38页
·靶材的制备工艺	第38-39页
·靶材的技术要求	第39-40页
·靶材的制备	第40-42页
·薄膜样品的制备与测试	第42-48页
·实验材料与设备	第42页
·制备样品的测试	第42-48页
·微型薄膜阵列式集成磁件的制备	第48-51页
·本章小节	第51-52页
结论	第52-53页
参考文献	第53-56页
作者简历	第56-58页
学位论文数据集	第58-59页