| 摘要 | 第1-5页 |
| Abstract | 第5-9页 |
| 1 绪论 | 第9-13页 |
| ·低温等离子体在工业中的应用 | 第9页 |
| ·PECVD的工作原理 | 第9-11页 |
| ·PECVD研究工作进展 | 第11-12页 |
| ·本文的研究内容及其安排 | 第12-13页 |
| 2 中性气体流动的FLUENT模拟 | 第13-36页 |
| ·引言 | 第13页 |
| ·FLUENT简介 | 第13-15页 |
| ·FLUENT模拟中的控制方程以及算法介绍 | 第15-16页 |
| ·FLUENT对中性气体的模拟结果 | 第16-34页 |
| ·腔室结构简介 | 第16-18页 |
| ·中性气体在侧面进气结构的分布情况 | 第18-23页 |
| ·中性气体在中间进气结构中的分布情况 | 第23-28页 |
| ·中性气体在匀流板结构中的分布情况 | 第28-34页 |
| ·本章小结 | 第34-36页 |
| 3 容性耦合Ar等离子体的流体力学模拟 | 第36-53页 |
| ·引言 | 第36页 |
| ·流体力学放电方程 | 第36-38页 |
| ·流体方程数值求解算法 | 第38页 |
| ·结果和讨论 | 第38-51页 |
| ·侧面进气结构 | 第38-43页 |
| ·中间进气结构 | 第43-47页 |
| ·匀流板结构 | 第47-51页 |
| ·本章小结 | 第51-53页 |
| 结论 | 第53-55页 |
| 参考文献 | 第55-58页 |
| 攻读硕士学位期间发表学术论文情况 | 第58-59页 |
| 致谢 | 第59-60页 |