首页--工业技术论文--电工技术论文--独立电源技术(直接发电)论文--蓄电池论文

硅基薄膜的制备及其在锂离子电池中的应用

摘要第1-5页
Abstract第5-10页
第一章 绪论第10-37页
   ·硅薄膜材料的分类与物性第10-12页
   ·太阳电池的发展现状及硅材料在太阳电池中的应用第12-22页
     ·太阳电池的发展现状第12-17页
     ·硅基薄膜在太阳电池中的应用第17-22页
   ·锂离子电池的发展及硅薄膜在锂离子电池中的应用第22-31页
     ·锂离子电池负极材料的研究现状第23-27页
     ·解决硅基负极材料容量衰减的途径第27-31页
   ·本论文的主要工作第31-32页
   ·本章小结第32-33页
 参考文献第33-37页
第二章 硅材料的制备与表征第37-66页
   ·微晶硅薄膜的制备方法第37-48页
     ·微晶硅薄膜的直接制备法第37-47页
     ·微晶硅薄膜的间接制备法第47-48页
   ·硅纳米线的制备方法第48-54页
     ·化学气相沉积法第48-50页
     ·激光烧蚀法第50-51页
     ·热蒸发法第51-52页
     ·电化学刻蚀法第52-53页
     ·溶液法第53-54页
   ·材料表征技术的简单介绍第54-62页
     ·X射线衍射(X-ray Diffraction,XRD)第54-55页
     ·拉曼光谱(Raman Spectroscopy)第55-56页
     ·傅立叶变换红外光谱分析(Infrared spectra analysis)第56-57页
     ·原子力显微镜(Atomic Force Microscope,AFM)第57-58页
     ·扫描电子显微镜(Scanning Electron Microscope,SEM)第58-59页
     ·透射电子显微镜(Transmission Electron Microscope,TEM)第59-60页
     ·光学透射谱(Optical Transmission Spectroscopy)第60-61页
     ·电导率测量第61-62页
   ·本章小结第62页
 参考文献第62-66页
第三章 ICP-CVD低温制备微晶硅薄膜第66-84页
   ·ICP-CVD低温制备微晶硅薄膜的研究意义第66-67页
   ·ICP-CVD制备硅薄膜的低温晶化第67-75页
     ·ICP-CVD制备硅薄膜的结构第67-72页
     ·ICP-CVD制备硅薄膜的光学性质第72-73页
     ·ICP-CVD制备硅薄膜的电学性质第73-75页
     ·ICP-CVD制备硅薄膜的低温晶化过程第75页
   ·塑料衬底上微晶硅薄膜的制备第75-80页
     ·硅薄膜的结构第76-77页
     ·硅薄膜生长的等离子体状态第77-79页
     ·硅薄膜的光学性质第79-80页
   ·本章小结第80-81页
 参考文献第81-84页
第四章 硅纳米线的制备与减反射性能第84-96页
   ·硅纳米线的研究意义第84页
   ·化学气相沉积法制备硅纳米线第84-87页
     ·硅纳米线的CVD制备第84-85页
     ·CVD制备硅纳米线的结构第85-87页
   ·ICP-CVD法制备硅纳米线第87-93页
     ·硅纳米线的ICP-CVD制备第87-88页
     ·ICP-CVD制备硅纳米线的结构第88-92页
     ·硅纳米线的减反射性能第92-93页
   ·本章小结第93-94页
 参考文献第94-96页
第五章 非晶硅薄膜在锂离子电池中的应用第96-111页
   ·非晶硅薄膜作为锂离子电池负极材料的研究意义第96页
   ·锂离子电池的组装与测试第96-99页
   ·电子辐照非晶硅薄膜在锂离子电池中的应用第99-106页
     ·电子辐照非晶硅薄膜的制备第99页
     ·电子辐照对硅薄膜结构的影响第99-101页
     ·电子辐照硅薄膜负极的锂离子电池性能第101-106页
   ·VHF-PECVD制备的硅薄膜在锂离子电池中应用第106-108页
   ·本章小结第108-109页
 参考文献第109-111页
第六章 总结与展望第111-113页
   ·本论文的主要结论第111-112页
   ·工作展望第112-113页
攻读博士学位期间发表的学术论文第113-114页
致谢第114页

论文共114页,点击 下载论文
上一篇:太阳能级硅(SOG-Si)光伏电池中多孔硅吸杂工艺及其神经网络分析方法研究
下一篇:古代夯土建筑动力响应及抗震保护