溅射法制备NiZn铁氧体薄膜工艺技术研究
| 摘要 | 第1-5页 |
| ABSTRACT | 第5-10页 |
| 第一章 绪论 | 第10-20页 |
| ·引言 | 第10-11页 |
| ·NiZn 铁氧体薄膜制备方法及国内研究状况 | 第11-18页 |
| ·溅射法 | 第12-14页 |
| ·脉冲激光沉积法 | 第14-16页 |
| ·旋转喷涂法 | 第16-17页 |
| ·溶胶-凝胶法 | 第17-18页 |
| ·本课题的研究意义与目的 | 第18-19页 |
| ·本论文的主要研究内容 | 第19-20页 |
| 第二章 薄膜的制备基础 | 第20-28页 |
| ·射频磁控溅射法 | 第20-22页 |
| ·薄膜的生长 | 第22-23页 |
| ·制备薄膜的工艺流程 | 第23-25页 |
| ·基片的清洗 | 第23-24页 |
| ·预溅射 | 第24-25页 |
| ·退火处理 | 第25页 |
| ·影响薄膜磁性能的因素 | 第25-26页 |
| ·薄膜的应力 | 第26-28页 |
| 第三章 NiZn 铁氧体靶材的制备 | 第28-37页 |
| ·制备靶材的工艺流程 | 第28-30页 |
| ·配料及预处理 | 第28-29页 |
| ·一次球磨 | 第29页 |
| ·预烧 | 第29页 |
| ·二次球磨 | 第29-30页 |
| ·烧结 | 第30页 |
| ·Ni 的含量对 NiZn 铁氧体靶材的影响 | 第30-34页 |
| ·靶材的相结构 | 第30-31页 |
| ·靶材的微观形貌 | 第31-32页 |
| ·靶材的磁性能 | 第32-34页 |
| ·烧结温度对 NiZn 铁氧体靶材的影响 | 第34-37页 |
| ·烧结温度对微观形貌的影响 | 第34-35页 |
| ·烧结温度对靶材相结构的影响 | 第35页 |
| ·烧结温度对靶材磁性能的影响 | 第35-37页 |
| 第四章 射频磁控溅射法工艺参数对薄膜性能的影响 | 第37-57页 |
| ·溅射功率对薄膜性能的影响 | 第37-41页 |
| ·溅射功率对薄膜表面形貌的影响 | 第37-39页 |
| ·溅射功率对薄膜相结构的影响 | 第39-40页 |
| ·溅射功率对薄膜样品磁性能的影响 | 第40-41页 |
| ·溅射气压对薄膜性能的影响 | 第41-45页 |
| ·溅射气压对薄膜表面形貌的影响 | 第42-43页 |
| ·溅射气压对薄膜样品相结构的影响 | 第43-44页 |
| ·溅射气压对薄膜磁性能的影响 | 第44-45页 |
| ·氧分压对薄膜性能的影响 | 第45-48页 |
| ·氧分压对薄膜磁性能的影响 | 第46-47页 |
| ·氧分压对薄膜微观结构的影响 | 第47-48页 |
| ·基片温度对薄膜性能的影响 | 第48-51页 |
| ·基片温度对薄膜表面形貌的影响 | 第48-49页 |
| ·不同基片温度对薄膜样品相结构的影响 | 第49-50页 |
| ·基片温度对薄膜磁性能的影响 | 第50-51页 |
| ·膜厚对薄膜性能的影响 | 第51-54页 |
| ·膜厚对薄膜相结构的影响 | 第52-53页 |
| ·膜厚对薄膜表面形貌的影响 | 第53-54页 |
| ·膜厚对薄膜磁性能的影响 | 第54页 |
| ·基片种类对薄膜性能的影响 | 第54-57页 |
| 第五章 晶化处理过程研究 | 第57-67页 |
| ·退火温度对 NiZn 铁氧体薄膜的影响 | 第57-61页 |
| ·退火温度对NiZn 铁氧体薄膜表面形貌的影响 | 第57-58页 |
| ·退火温度对NiZn 铁氧体薄膜相结构的影响 | 第58-59页 |
| ·退火温度对NiZn 铁氧体薄膜磁性能的影响 | 第59-61页 |
| ·保温时间对薄膜性能的影响 | 第61-64页 |
| ·保温时间对薄膜表面形貌的影响 | 第61-62页 |
| ·保温时间对薄膜相结构的影响 | 第62-63页 |
| ·保温时间对薄膜磁性能的影响 | 第63-64页 |
| ·升温速率对薄膜性能的影响 | 第64-67页 |
| ·升温速率对薄膜表面形貌的影响 | 第64-65页 |
| ·升温速率对薄膜相结构的影响 | 第65-66页 |
| ·升温速率对薄膜磁性能的影响 | 第66-67页 |
| 第六章 结论 | 第67-68页 |
| 致谢 | 第68-69页 |
| 参考文献 | 第69-74页 |
| 攻硕期间取得的研究成果 | 第74-75页 |
