| 摘要 | 第4-6页 |
| Abstract | 第6-7页 |
| 第一章 绪论 | 第11-24页 |
| 1.1 双金属纳米材料的简介 | 第11-18页 |
| 1.1.1 双金属纳米材料的制备方法 | 第11-15页 |
| 1.1.1.1 协同还原法 | 第11-12页 |
| 1.1.1.2 热分解法 | 第12-13页 |
| 1.1.1.3 原位生长法 | 第13-14页 |
| 1.1.1.4 Galvanic置换法 | 第14-15页 |
| 1.1.2 双金属纳米材料的性质 | 第15-16页 |
| 1.1.2.1 电催化性质 | 第15-16页 |
| 1.1.2.2 光催化性质 | 第16页 |
| 1.1.2.3 储能性 | 第16页 |
| 1.1.3 双金属纳米材料在电化学分析中的应用 | 第16-18页 |
| 1.1.3.1 小分子的检测 | 第16-17页 |
| 1.1.3.2 有机磷化合物的检测 | 第17页 |
| 1.1.3.3 药物检测 | 第17-18页 |
| 1.2 石墨烯 | 第18-20页 |
| 1.2.1 石墨烯的简介 | 第18页 |
| 1.2.2 石墨烯的功能化 | 第18-19页 |
| 1.2.2.1 共价键法 | 第18-19页 |
| 1.2.2.2 非共价键法 | 第19页 |
| 1.2.3 石墨烯在电化学分析上的应用 | 第19-20页 |
| 1.3 分子印迹技术 | 第20-22页 |
| 1.3.1 分子印迹技术的简介 | 第20页 |
| 1.3.2 分子印迹技术的分类 | 第20-21页 |
| 1.3.3 分子印迹技术在电化学分析中的应用 | 第21-22页 |
| 1.4 研究意义及内容 | 第22-24页 |
| 第二章 基于PDDA-Gr-(Pt-Pd),PDDA-Gr-(Pt-Cu),PDDA-Gr-(Co-Ni)复合材料修饰电极的构建及对日落黄的检测 | 第24-43页 |
| 2.1 引言 | 第24-25页 |
| 2.2 实验部分 | 第25-27页 |
| 2.2.1 仪器和试剂 | 第25页 |
| 2.2.2 PDDA-Gr的制备 | 第25-26页 |
| 2.2.3 Pt-Pd双金属纳米笼的制备 | 第26页 |
| 2.2.4 Pt-Cu双金属纳米框架的制备 | 第26页 |
| 2.2.5 Co-Ni双金属纳米花的制备 | 第26-27页 |
| 2.2.6 复合材料PDDA-Gr-(Pt-Pd),PDDA-Gr-(Pt-Cu),PDDA-Gr-(Co-Ni)的制备 | 第27页 |
| 2.2.7 PDDA-Gr-(Pt-Pd)/GCE,PDDA-Gr-(Pt-Cu)/GCE,PDDA-Gr-(Co-Ni)/GCE的制备 | 第27页 |
| 2.2.8 电化学测量过程以及实际样的准备 | 第27页 |
| 2.3 结果与讨论 | 第27-42页 |
| 2.3.1 石墨烯与双金属纳米材料的表征 | 第27-29页 |
| 2.3.2 PDDA-Gr-(Pt-Pd),PDDA-Gr-(Pt-Cu),PDDA-Gr-(Co-Ni)复合材料的表征 | 第29-32页 |
| 2.3.3 PDDA-Gr-(Pt-Pd),PDDA-Gr-(Pt-Cu),PDDA-Gr-(Co-Ni)修饰电极的表征 | 第32-34页 |
| 2.3.4 日落黄在不同修饰电极上的电化学行为研究 | 第34-35页 |
| 2.3.5 支持电解质的p H对日落黄的电化学行为的影响 | 第35-36页 |
| 2.3.6 扫描速率对日落黄电化学行为的影响 | 第36-38页 |
| 2.3.7 工作曲线 | 第38-40页 |
| 2.3.8 干扰研究和实际样品分析 | 第40-42页 |
| 2.4 小结 | 第42-43页 |
| 第三章 基于PDDA-Gr-(Pd-Cu)复合材料修饰的分子印迹传感器的构建及对苋菜红的检测 | 第43-56页 |
| 3.1 引言 | 第43页 |
| 3.2 实验部分 | 第43-45页 |
| 3.2.1 仪器和试剂 | 第43-44页 |
| 3.2.2 PDDA-Gr-(Pd-Cu)复合材料的制备 | 第44页 |
| 3.2.3 分子印迹材料PDDA-Gr-(Pd-Cu)@MIP-PDA的制备 | 第44-45页 |
| 3.2.4 PDDA-Gr-(Pd-Cu)@MIP-PDA/GCE的制备 | 第45页 |
| 3.2.5 电化学测量过程以及实际样的准备 | 第45页 |
| 3.3 结果与讨论 | 第45-55页 |
| 3.3.1 Pd-Cu双金属和PDDA-Gr-(Pd-Cu)复合材料的表征 | 第45-47页 |
| 3.3.2 PDDA-Gr-(Pd-Cu)@MIP-PDA与PDDA-Gr-(Pd-Cu)@NIP-PDA的表征 | 第47-48页 |
| 3.3.3 不同材料修饰电极的电化学表征 | 第48-50页 |
| 3.3.4 PDDA-Gr-(Pd-Cu)@MIP-PDA制备条件的优化 | 第50-51页 |
| 3.3.5 苋菜红检测条件的优化 | 第51-53页 |
| 3.3.6 工作曲线 | 第53页 |
| 3.3.7 PDDA-Gr-(Pd-Cu)@MIP-PDA/GCE的选择性研究 | 第53-55页 |
| 3.3.8 实际样品分析 | 第55页 |
| 3.4 小结 | 第55-56页 |
| 第四章 结论与展望 | 第56-57页 |
| 4.1 结论 | 第56页 |
| 4.2 展望 | 第56-57页 |
| 参考文献 | 第57-68页 |
| 个人简历及在校发表学术论文 | 第68-69页 |
| 致谢 | 第69页 |
