| 摘要 | 第1-7页 |
| Abstract | 第7-12页 |
| 插图索引 | 第12-14页 |
| 附表索引 | 第14-15页 |
| 第1章 前言 | 第15-37页 |
| ·电阻薄膜的研究与发展现状 | 第15页 |
| ·Ta薄膜的研究与发展现状 | 第15-23页 |
| ·Ta薄膜在集成电路导线互连和扩散阻挡层中的应用与发展 | 第16-17页 |
| ·Ta薄膜在电阻器中的应用与发展 | 第17-19页 |
| ·Ta薄膜用作介电材料的应用与发展现状 | 第19-22页 |
| ·Ta薄膜在其它器件中的应用 | 第22-23页 |
| ·Ta薄膜的制备技术 | 第23-30页 |
| ·Ta薄膜的主要制备技术 | 第23页 |
| ·溅射法在Ta薄膜制备技术中的应用 | 第23-24页 |
| ·Ta薄膜常用溅射方法 | 第24-26页 |
| ·溅射工艺对Ta系电阻薄膜微观结构及电性能影响的有关研究 | 第26-30页 |
| ·关于薄膜电学性能的研究理论 | 第30-34页 |
| ·连续金属薄膜的电导 | 第30-31页 |
| ·非连续金属薄膜的电导 | 第31-33页 |
| ·金属微粒一非金属薄膜的电导 | 第33-34页 |
| ·本论文的选题背景 | 第34-35页 |
| ·本课题的目的及主要内容 | 第35-37页 |
| 第2章 Ta薄膜的磁控溅射工艺与性能研究 | 第37-69页 |
| ·引言 | 第37页 |
| ·薄膜样品的制备 | 第37-39页 |
| ·实验用磁控溅射系统 | 第37-38页 |
| ·Ta薄膜制备的实验方法与过程 | 第38-39页 |
| ·薄膜的微观结构表征及性能检测方法 | 第39-42页 |
| ·Ta薄膜的微观结构表征 | 第39-40页 |
| ·Ta薄膜的电学性能测量 | 第40-42页 |
| ·结果与讨论 | 第42-68页 |
| ·基底对溅射沉积Ta薄膜微观结构及电学性能的影响 | 第42-43页 |
| ·工作气压对溅射沉积Ta薄膜的结构与电性能影响 | 第43-48页 |
| ·基底温度对溅射沉积Ta薄膜的结构与电性能影响 | 第48-51页 |
| ·溅射功率对溅射沉积Ta薄膜的结构与电性能影响 | 第51-61页 |
| ·热处理对溅射沉积Ta薄膜的结构与电性能影响 | 第61-68页 |
| ·本章小结 | 第68-69页 |
| 第3章 磁控溅射制备Ta-O薄膜及其性能研究 | 第69-91页 |
| ·引言 | 第69-70页 |
| ·实验方法与过程 | 第70-71页 |
| ·不同氧含量对沉积T.a-O薄膜的微观结构与电性能影响 | 第71-83页 |
| ·不同氧含量下沉积Ta-O薄膜微观结构的演变 | 第71-72页 |
| ·不同氧含量下溅射沉积Ta-O薄膜表面形貌 | 第72-74页 |
| ·Ta-O薄膜微区化学成分 | 第74-75页 |
| ·热处理对Ta-O薄膜微观结构影响 | 第75-77页 |
| ·Ta-O薄膜电学性能 | 第77-83页 |
| ·Ta-O薄膜的电学稳定性 | 第83-89页 |
| ·本章小结 | 第89-91页 |
| 第4章 Ta复合层状薄膜的制备及其性能研究 | 第91-113页 |
| ·引言 | 第91页 |
| ·Ta/Ti 双层薄膜的制备及其电学性能 | 第91-100页 |
| ·Ta/Ti双层薄膜的制备 | 第91-92页 |
| ·Ta/Ti 双层薄膜的微观结构演变 | 第92-99页 |
| ·Ta/Ti 双层丢薄膜的电学性能 | 第99-100页 |
| ·Ta/Ta0_x 薄膜的制备及其电学性能 | 第100-111页 |
| ·Ta/Ta0_x薄膜的制备及表征 | 第100-101页 |
| ·Ta/Ta0_x薄膜的微观结构演变 | 第101-103页 |
| ·Ta/Ta0_x薄膜的表面形貌 | 第103-108页 |
| ·不同O_2/Ar流量比时Ta0_x缓冲层的元素深度分布 | 第108-109页 |
| ·Ta薄膜结构与Ta0_x缓冲层关系探讨 | 第109-110页 |
| ·Ta/Ta0_x薄膜结构对电性能影响分析 | 第110-111页 |
| ·本章小结 | 第111-113页 |
| 总结和展望 | 第113-115页 |
| 参考文献 | 第115-136页 |
| 附录A攻读博士学位期间所发表的学术论文 | 第136-137页 |
| 致谢 | 第137页 |
