| 摘要 | 第4-5页 |
| abstract | 第5-6页 |
| 第一章 绪论 | 第10-22页 |
| 1.1 集成电路发展历程 | 第10-12页 |
| 1.2 金属栅极的引入 | 第12-15页 |
| 1.3 CMP的发展 | 第15-18页 |
| 1.4 论文研究背景及意义 | 第18-20页 |
| 1.4.1 研究背景 | 第18页 |
| 1.4.2 铝栅CMP的发展及其存在的问题分析 | 第18-20页 |
| 1.5 论文研究内容 | 第20-22页 |
| 第二章 CMP工艺设备与铝栅抛光组分特性的介绍 | 第22-36页 |
| 2.1 CMP工艺设备介绍 | 第22-31页 |
| 2.1.1 抛光机 | 第22-23页 |
| 2.1.2 抛光垫 | 第23页 |
| 2.1.3 纳米激光粒度仪 | 第23-24页 |
| 2.1.4 分析天平 | 第24-25页 |
| 2.1.5 Olympus金相显微镜 | 第25页 |
| 2.1.6 接触角测量仪 | 第25-27页 |
| 2.1.7 电化学工作站 | 第27-29页 |
| 2.1.8 AFM原子力显微镜 | 第29-30页 |
| 2.1.9 pH计 | 第30-31页 |
| 2.2 碱性铝栅CMP抛光液组分特性介绍 | 第31-35页 |
| 2.2.1 磨料 | 第31-33页 |
| 2.2.2 非离子表面活性剂 | 第33页 |
| 2.2.3 FA/O型螯合剂 | 第33-34页 |
| 2.2.4 氧化剂 | 第34-35页 |
| 2.3 本章小结 | 第35-36页 |
| 第三章 CMP理论及铝栅缺陷研究 | 第36-42页 |
| 3.1 铝栅CMP理论 | 第36-39页 |
| 3.1.1 优先吸附理论 | 第36-37页 |
| 3.1.2 滞留层理论 | 第37-38页 |
| 3.1.3 阿伦尼乌斯理论 | 第38-39页 |
| 3.2 铝栅缺陷研究 | 第39-41页 |
| 3.2.1 铝栅划痕缺陷研究 | 第39页 |
| 3.2.2 铝栅颗粒残留缺陷研究 | 第39-40页 |
| 3.2.3 铝栅腐蚀缺陷研究 | 第40-41页 |
| 3.3 本章小结 | 第41-42页 |
| 第四章 铝栅去除速率的研究 | 第42-67页 |
| 4.1 铝栅去除速率机理的研究 | 第42-43页 |
| 4.2 抛光液各组分对铝栅去除速率的研究 | 第43-56页 |
| 4.2.1 磨料对铝去除速率的影响 | 第43-47页 |
| 4.2.2 活性剂对铝去除速率的影响 | 第47-50页 |
| 4.2.3 螯合剂对铝去除速率的影响 | 第50-52页 |
| 4.2.4 氧化剂对铝去除速率的影响 | 第52-55页 |
| 4.2.5 氧化剂和螯合剂协同作用 | 第55-56页 |
| 4.3 工艺条件对铝栅去除速率的研究 | 第56-64页 |
| 4.3.1 抛光压力对铝去除速率的影响 | 第57-60页 |
| 4.3.2 抛光转速对铝去除速率的影响 | 第60-62页 |
| 4.3.3 抛光液流量对铝去除速率的影响 | 第62-64页 |
| 4.4 铝栅CMP抛光速率模型的建立 | 第64-65页 |
| 4.5 本章小结 | 第65-67页 |
| 第五章 铝栅表面缺陷的研究 | 第67-91页 |
| 5.1 抛光液各组分对铝栅表面粗糙度的研究 | 第67-77页 |
| 5.1.1 磨料对铝表面粗糙度的影响 | 第67-71页 |
| 5.1.2 活性剂对铝表面粗糙度的影响 | 第71-74页 |
| 5.1.3 螯合剂对铝表面粗糙度的影响 | 第74-75页 |
| 5.1.4 氧化剂对铝表面粗糙度的影响 | 第75-77页 |
| 5.2 抛光垫及抛光工艺对铝栅表面粗糙度的研究 | 第77-85页 |
| 5.2.1 抛光垫对铝表面粗糙度的影响 | 第77-80页 |
| 5.2.2 抛光压力对铝表面粗糙度的影响 | 第80-82页 |
| 5.2.3 抛光转速对铝表面粗糙度的影响 | 第82-83页 |
| 5.2.4 抛光液流量对铝表面粗糙度的影响 | 第83-85页 |
| 5.3 划痕模型的建立 | 第85-89页 |
| 5.4 本章小结 | 第89-91页 |
| 第六章 铝栅CMP后清洗研究 | 第91-109页 |
| 6.1 清洗技术的发展历程 | 第91-94页 |
| 6.2 CMP后清洗研究 | 第94-95页 |
| 6.3 表面污染物分类及危害 | 第95-97页 |
| 6.4 活性剂对表面残留磨料颗粒去除的研究 | 第97-103页 |
| 6.4.1 不同活性剂的表面张力对比研究 | 第97-99页 |
| 6.4.2 FA/O活性剂去除残留颗粒的研究 | 第99-102页 |
| 6.4.3 FA/O活性剂抑制腐蚀能力的研究 | 第102-103页 |
| 6.5 螯合剂的作用 | 第103-106页 |
| 6.5.1 FA/O螯合剂去除金属离子和金属氧化物的研究 | 第103-105页 |
| 6.5.2 FA/O螯合剂浓度对BTA去除的研究 | 第105-106页 |
| 6.6 清洗液对表面的清洗效果 | 第106-107页 |
| 6.7 本章小结 | 第107-109页 |
| 第七章 总结与展望 | 第109-113页 |
| 7.1 结论 | 第109-111页 |
| 7.2 创新点 | 第111页 |
| 7.3 展望 | 第111-113页 |
| 参考文献 | 第113-123页 |
| 攻读学位期间所取得的相关科研成果 | 第123-125页 |
| 致谢 | 第125页 |