摘要 | 第1-6页 |
Abstract | 第6-12页 |
第一章 引言 | 第12-34页 |
·光催化化学 | 第12-13页 |
·光催化反应的应用 | 第13-17页 |
·光催化处理水中有机污染物 | 第13-15页 |
·光催化处理大气中有机污染物 | 第15-16页 |
·光催化分解水制氢 | 第16-17页 |
·光催化处理无机污染物 | 第17页 |
·半导体光催化反应基本原理 | 第17-18页 |
·影响光催化反应性能的因素 | 第18-23页 |
·催化剂晶体生长的影响 | 第18-21页 |
·外加场效应的影响 | 第21-22页 |
·反应体系条件的影响 | 第22-23页 |
·非TiO_2 基可见光催化活性的半导体光催化材料研究进展 | 第23-31页 |
·ABO_4 型氧化物光催化剂 | 第24页 |
·钙钛矿结构(ABO_3)氧化物光催化剂 | 第24-26页 |
·尖晶石结构氧化物光催化剂 | 第26-27页 |
·烧绿石结构氧化物光催化剂 | 第27-28页 |
·贵金属负载复合氧化物光催化剂 | 第28-29页 |
·新型复合光催化剂的制备方法 | 第29-31页 |
·实现可见光催化需要解决的问题 | 第31页 |
·论文选题目的及意义 | 第31-34页 |
第二章 形貌控制合成钒酸铋及其光催化性能研究 | 第34-50页 |
·前言 | 第34-35页 |
·实验部分 | 第35-38页 |
·试剂与仪器 | 第35页 |
·BiVO_4 的制备 | 第35-36页 |
·光催化反应装置 | 第36-37页 |
·光催化过程及其监测 | 第37-38页 |
·结果与讨论 | 第38-49页 |
·BiVO_4 的表征 | 第38-46页 |
·XRD分析 | 第38-40页 |
·FESEM和TEM分析 | 第40-43页 |
·Raman分析 | 第43-44页 |
·XPS分析 | 第44-45页 |
·UV–vis/DRS分析 | 第45-46页 |
·光催化性能研究 | 第46-49页 |
·光催化降解染料RB和MB | 第46-49页 |
·讨论 | 第49页 |
·小结 | 第49-50页 |
第三章 Bi_5Nb_3O_(15)的设计制备及其光催化性能研究 | 第50-65页 |
·前言 | 第50-52页 |
·实验部分 | 第52-55页 |
·试剂与仪器 | 第52页 |
·Bi_5Nb_3O_(15) 的制备 | 第52-53页 |
·光催化反应装置 | 第53页 |
·光催化过程及检测 | 第53-55页 |
·结果与讨论 | 第55-64页 |
·Bi_5Nb_3O_(15) 的表征 | 第55-61页 |
·XRD分析 | 第55-57页 |
·FESEM和TEM分析 | 第57-58页 |
·XPS分析 | 第58-60页 |
·UV–vis/DRS分析 | 第60-61页 |
·光催化性能研究 | 第61-64页 |
·模拟太阳光光催化降解染料MO | 第61-62页 |
·模拟太阳光光催化降解2,4–D | 第62-63页 |
·讨论 | 第63-64页 |
·小结 | 第64-65页 |
第四章 Ag/Bi_5Nb_3O_(15)的设计制备及其光催化行为研究 | 第65-83页 |
·前言 | 第65-66页 |
·实验部分 | 第66-68页 |
·试剂与仪器 | 第66-67页 |
·Ag/Bi_5Nb_3O_(15) 的制备 | 第67页 |
·光催化反应装置 | 第67-68页 |
·光催化过程及检测 | 第68页 |
·结果与讨论 | 第68-80页 |
·Ag/Bi_5Nb_3O_(15) 的表征 | 第68-73页 |
·FESEM分析 | 第68-69页 |
·XRD分析 | 第69-70页 |
·XPS分析 | 第70-72页 |
·UV–vis/DRS分析 | 第72页 |
·氮气吸附–脱附 | 第72-73页 |
·光催化性能研究 | 第73-80页 |
·模拟太阳光(λ > 320 nm)光催化降解TBBPA研究 | 第73-75页 |
·可见光(λ > 400 或420 nm)光催化降解TBBPA研究 | 第75-77页 |
·讨论 | 第77页 |
·反应体系pH值对光催化活性的影响 | 第77-78页 |
·催化剂的循环再生 | 第78-80页 |
·光催化降解TBBPA机理研究 | 第80-81页 |
·小结 | 第81-83页 |
结论 | 第83-85页 |
参考文献 | 第85-100页 |
后记 | 第100-101页 |
在学期间公开发表论文及著作情况 | 第101-102页 |