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半导体可饱和吸收体光学性质的第一性原理研究

摘要第10-12页
ABSTRACT第12-13页
符号说明第14-15页
第一章 引言第15-21页
    1.1 全固态激光器第15-16页
    1.2 调Q的基本原理及常用的调Q技术第16-19页
        1.2.1 调Q的基本原理第16-17页
        1.2.2 常用的几种主被动调Q技术第17-19页
    1.3 本文的主要研究内容第19-21页
第二章 分子模拟技术概述第21-30页
    2.1 引言第21页
    2.2 分子模拟技术的基本方法第21-24页
        2.2.1 分子力学方法(Molecular mechanics,MM)第22页
        2.2.2 蒙特卡洛方法(Monte Carlo,MC)第22页
        2.2.3 量子力学方法(Quantum mechanics,QM)第22-23页
        2.2.4 分子动力学方法第23-24页
        2.2.5 介观模拟方法(mesoscale simulation)第24页
    2.3 第一性原理计算的基本理论第24-27页
        2.3.1 第一性原理计算第24-25页
        2.3.2 密度泛函理论第25-27页
            2.3.2.1 Thomas-Fermi模型第25页
            2.3.2.2 Hohenberg-Kohn方程第25-26页
            2.3.2.3 Kohn-Sham方程第26-27页
            2.3.2.4 交换关联能的近似方法第27页
    2.4 CASTEP模块基本理论和使用方法介绍第27-30页
        2.4.1 赝势第28页
        2.4.2 超晶胞方法第28-29页
        2.4.3 Castep模块的使用第29-30页
第三章 含本征点缺陷的GaAs可饱和吸收体光学性质的第一性原理研究第30-45页
    3.1 引言第30-31页
    3.2 晶体光学性质的理论描述第31-32页
    3.3 计算方法和模型第32-34页
    3.4. 结果和讨论第34-44页
        3.4.1 电子结构第34-37页
        3.4.2 光学性质第37-44页
            3.4.2.1 介电函数第38-40页
            3.4.2.2 吸收光谱第40-42页
            3.4.2.3 复折射率第42-43页
            3.4.2.4 反射率第43-44页
    3.5 总结第44-45页
第四章 Bi掺杂GaAs晶体的电子结构和光学性质的第一性原理研究第45-57页
    4.1 引言第45页
    4.2 计算方法和模型第45-48页
    4.3 结果与讨论第48-55页
        4.3.1 电子结构第48-50页
        4.3.2 光学性质第50-55页
            4.3.2.1 GaAs_(1-x)Bi_x的介电函数第50-52页
            4.3.2.2 GaAs_(1-x)Bi_x的吸收系数第52-53页
            4.3.2.3 GaAs_(1-x)Bi_x的复折射率第53-55页
            4.3.2.4 GaAs_(1-x)Bi_x的电导率第55页
    4.4 总结第55-57页
第五章 全文总结第57-59页
    5.1 论文完成的工作第57页
    5.2 展望第57-59页
参考文献第59-65页
致谢第65-67页
攻读硕士论文期间发表的学术论文第67-68页
附件第68页

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