| 摘要 | 第5-7页 |
| ABSTRACT | 第7-8页 |
| 符号对照表 | 第12-13页 |
| 缩略语对照表 | 第13-16页 |
| 第一章 绪论 | 第16-22页 |
| 1.1 超短脉冲激光的发展 | 第16-17页 |
| 1.2 无序晶体的超快激光研究 | 第17页 |
| 1.3 氟化钙晶体性质 | 第17-19页 |
| 1.3.1 氟化钙激光晶体发展状况 | 第19页 |
| 1.4 二极管泵浦的固体激光器简介 | 第19-21页 |
| 1.5 本论文的主要研究工作 | 第21-22页 |
| 第二章 锁模基本原理及色散补偿技术 | 第22-36页 |
| 2.1 被动锁模原理 | 第22-23页 |
| 2.2 半导体可饱和吸收镜工作原理及结构参数 | 第23-25页 |
| 2.3 色散分析及补偿 | 第25-31页 |
| 2.3.1 色散分析 | 第26-27页 |
| 2.3.2 色散计算及补偿 | 第27-31页 |
| 2.4 超短脉冲激光测量原理 | 第31-34页 |
| 2.5 本章小结 | 第34-36页 |
| 第三章 半导体激光二极管泵浦掺Nd~(3+)氟化物的实验研究 | 第36-54页 |
| 3.1 二极管泵浦掺Nd~(3+)氟化物无序晶体的研究背景 | 第36-37页 |
| 3.2 二极管泵浦Nd,Y:CaF_2晶体的激光器实验研究 | 第37-46页 |
| 3.2.1 本文所用激光二极管简介 | 第38-39页 |
| 3.2.2 Nd,Y:CaF_2连续激光研究 | 第39-42页 |
| 3.2.3 Nd,Y:CaF_2锁模激光实验研究 | 第42-46页 |
| 3.3 Nd,La共掺和Nd,Sc共掺CaF_2激光器的研究 | 第46-51页 |
| 3.3.1 Nd,La共掺和Nd,Sc共掺CaF_2晶体的光谱和吸收性质 | 第46-48页 |
| 3.3.2 Nd,La共掺和Nd,Sc共掺CaF_2的连续激光实验装置图 | 第48-49页 |
| 3.3.3 Nd,La共掺和Nd,Sc共掺CaF_2晶体的连续激光的实验结果 | 第49-51页 |
| 3.3.4 结论 | 第51页 |
| 3.4 本章小结 | 第51-54页 |
| 第四章 径迹蚀刻薄膜孔的均匀性研究 | 第54-60页 |
| 4.1 径迹蚀刻薄膜技术背景介绍 | 第54页 |
| 4.2 PET和PC薄膜孔均匀性研究 | 第54-59页 |
| 4.2.1 实验基本原理 | 第55-56页 |
| 4.2.2 实验结果 | 第56-59页 |
| 4.2.3 实验结果分析 | 第59页 |
| 4.3 本章小结 | 第59-60页 |
| 第五章 总结与展望 | 第60-62页 |
| 参考文献 | 第62-68页 |
| 致谢 | 第68-70页 |
| 作者简介 | 第70-72页 |
