摘要 | 第5-6页 |
Abstract | 第6-7页 |
第1章 绪论 | 第11-22页 |
1.1 引言 | 第11页 |
1.2 脉冲光纤激光器 | 第11-16页 |
1.2.1 调Q技术 | 第11-13页 |
1.2.2 锁模技术 | 第13-16页 |
1.3 可饱和吸收体材料应用研究进展 | 第16-20页 |
1.4 论文工作内容与结构安排 | 第20-22页 |
第2章 可饱和吸收体调Q和锁模光纤激光器理论分析 | 第22-30页 |
2.1 饱和吸收体调Q光纤激光器理论分析 | 第22-27页 |
2.1.1 调Q速率方程的建立 | 第22-24页 |
2.1.2 速率方程的解 | 第24-25页 |
2.1.3 可饱和吸收体的特性参数 | 第25-26页 |
2.1.4 饱和吸收体被动调Q速率方程组 | 第26-27页 |
2.2 饱和吸收体锁模光纤激光器理论分析 | 第27-29页 |
2.2.1 光纤激光器中的光脉冲传输方程 | 第27-29页 |
2.2.2 可饱和吸收体数学模型 | 第29页 |
2.3 本章小结 | 第29-30页 |
第3章 石墨烯谐波锁模光纤激光器 | 第30-42页 |
3.1 石墨烯可饱和吸收机理 | 第30-32页 |
3.2 石墨烯被动锁模光纤激光器实验装置 | 第32-34页 |
3.2.1 石墨烯可饱和吸收体的制备 | 第32-34页 |
3.2.2 石墨烯被动锁模光纤激光器实验装置 | 第34页 |
3.3 谐波锁模实验结果及分析 | 第34-41页 |
3.3.1 基频锁模和谐波锁模实验结果 | 第34-38页 |
3.3.2 多孤子的产生和谐波锁模的形成机制 | 第38-40页 |
3.3.3 泵浦功率对谐波锁模的影响 | 第40-41页 |
3.4 本章小结 | 第41-42页 |
第4章 拓扑绝缘体调Q光纤激光器 | 第42-54页 |
4.1 光沉积法介绍 | 第42-46页 |
4.1.1 光镊技术的产生和发展 | 第43页 |
4.1.2 光镊技术原理分析 | 第43-45页 |
4.1.3 光沉积法实验装置和内部机理探讨 | 第45-46页 |
4.2 光沉积法制备拓扑绝缘体可饱和吸收体 | 第46-50页 |
4.2.1 少层拓扑绝缘体材料分散液的制备 | 第46-47页 |
4.2.2 拓扑绝缘体可饱和吸收体的制备和结果讨论 | 第47-50页 |
4.3 基于拓扑绝缘体窄线宽调Q的光纤激光器 | 第50-53页 |
4.3.1 光纤激光器实验装置 | 第50-51页 |
4.3.2 实验结果 | 第51-52页 |
4.3.3 对实验结果的理论分析 | 第52-53页 |
4.4 本章小结 | 第53-54页 |
总结和展望 | 第54-55页 |
参考文献 | 第55-63页 |
致谢 | 第63-64页 |
附录 攻读学位期间所发表的学术论文 | 第64页 |