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二维材料转移技术研究及其在光纤激光器中的应用

摘要第5-6页
Abstract第6-7页
第1章 绪论第11-22页
    1.1 引言第11页
    1.2 脉冲光纤激光器第11-16页
        1.2.1 调Q技术第11-13页
        1.2.2 锁模技术第13-16页
    1.3 可饱和吸收体材料应用研究进展第16-20页
    1.4 论文工作内容与结构安排第20-22页
第2章 可饱和吸收体调Q和锁模光纤激光器理论分析第22-30页
    2.1 饱和吸收体调Q光纤激光器理论分析第22-27页
        2.1.1 调Q速率方程的建立第22-24页
        2.1.2 速率方程的解第24-25页
        2.1.3 可饱和吸收体的特性参数第25-26页
        2.1.4 饱和吸收体被动调Q速率方程组第26-27页
    2.2 饱和吸收体锁模光纤激光器理论分析第27-29页
        2.2.1 光纤激光器中的光脉冲传输方程第27-29页
        2.2.2 可饱和吸收体数学模型第29页
    2.3 本章小结第29-30页
第3章 石墨烯谐波锁模光纤激光器第30-42页
    3.1 石墨烯可饱和吸收机理第30-32页
    3.2 石墨烯被动锁模光纤激光器实验装置第32-34页
        3.2.1 石墨烯可饱和吸收体的制备第32-34页
        3.2.2 石墨烯被动锁模光纤激光器实验装置第34页
    3.3 谐波锁模实验结果及分析第34-41页
        3.3.1 基频锁模和谐波锁模实验结果第34-38页
        3.3.2 多孤子的产生和谐波锁模的形成机制第38-40页
        3.3.3 泵浦功率对谐波锁模的影响第40-41页
    3.4 本章小结第41-42页
第4章 拓扑绝缘体调Q光纤激光器第42-54页
    4.1 光沉积法介绍第42-46页
        4.1.1 光镊技术的产生和发展第43页
        4.1.2 光镊技术原理分析第43-45页
        4.1.3 光沉积法实验装置和内部机理探讨第45-46页
    4.2 光沉积法制备拓扑绝缘体可饱和吸收体第46-50页
        4.2.1 少层拓扑绝缘体材料分散液的制备第46-47页
        4.2.2 拓扑绝缘体可饱和吸收体的制备和结果讨论第47-50页
    4.3 基于拓扑绝缘体窄线宽调Q的光纤激光器第50-53页
        4.3.1 光纤激光器实验装置第50-51页
        4.3.2 实验结果第51-52页
        4.3.3 对实验结果的理论分析第52-53页
    4.4 本章小结第53-54页
总结和展望第54-55页
参考文献第55-63页
致谢第63-64页
附录 攻读学位期间所发表的学术论文第64页

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