| 摘要 | 第4-6页 |
| ABSTRACT | 第6-7页 |
| 第一章 文献综述 | 第11-35页 |
| 1.1 偏光特性概述 | 第11-16页 |
| 1.1.1 自然光和偏振光 | 第11-13页 |
| 1.1.1.1 自然光 | 第11页 |
| 1.1.1.2 线偏振光 | 第11-12页 |
| 1.1.1.3 部分偏振光 | 第12-13页 |
| 1.1.1.4 圆偏振光和椭圆偏振光 | 第13页 |
| 1.1.2 起偏与检偏 | 第13-14页 |
| 1.1.2.1 起偏 | 第13页 |
| 1.1.2.2 检偏 | 第13-14页 |
| 1.1.3 光的双折射现象 | 第14页 |
| 1.1.4 波片 | 第14-16页 |
| 1.1.4.1 1/4波片 | 第15页 |
| 1.1.4.2 1/2波片 | 第15-16页 |
| 1.1.4.3 全波片 | 第16页 |
| 1.2 功能材料概述 | 第16-23页 |
| 1.2.1 光致各向异性材料 | 第16-20页 |
| 1.2.1.1 偶氮类化合物 | 第16-18页 |
| 1.2.1.2 俘精酸酐 | 第18-19页 |
| 1.2.1.3 其他 | 第19-20页 |
| 1.2.2 光折变晶体 | 第20页 |
| 1.2.3 光导热塑料 | 第20页 |
| 1.2.5 偏光记忆材料的选择特性 | 第20-23页 |
| 1.2.5.1 旋光性物质 | 第21-22页 |
| 1.2.5.2 偏振片 | 第22页 |
| 1.2.5.3 波片 | 第22页 |
| 1.2.5.4 光学各向异性材料 | 第22-23页 |
| 1.3 液晶材料的光控取向概述 | 第23-29页 |
| 1.3.1 液晶光控取向技术国内外的研究状况 | 第23-24页 |
| 1.3.2 光致异构类材料(含偶氮基团的聚合物) | 第24页 |
| 1.3.3 含肉桂酰基团的聚合物 | 第24-26页 |
| 1.3.4 聚酰亚胺取向层 | 第26-27页 |
| 1.3.5 其它类光控取向聚合物 | 第27-29页 |
| 1.4 光敏材料的有序排列及偏光记忆原理 | 第29-33页 |
| 1.4.1 光敏高分子的光控原理 | 第29-30页 |
| 1.4.2 液晶材料的光控原理 | 第30页 |
| 1.4.3 形成图像检测及效果 | 第30-33页 |
| 1.5 本论文研究目的和创新点 | 第33-35页 |
| 1.5.1 本论文研究目的及意义 | 第33-34页 |
| 1.5.2 本论文的创新点 | 第34-35页 |
| 第二章 实验部分 | 第35-40页 |
| 2.1 原料和实验设备 | 第35-36页 |
| 2.1.1 原料 | 第35-36页 |
| 2.1.2 实验设备 | 第36页 |
| 2.2 实验方法 | 第36-40页 |
| 2.2.1 功能聚合物性能的研究 | 第36-39页 |
| 2.2.1.1 材料性能的测定 | 第37页 |
| 2.2.1.2 偏光特性实验 | 第37页 |
| 2.2.1.3 UV辐射法 | 第37-38页 |
| 2.2.1.4 CO_2激光烧蚀法 | 第38页 |
| 2.2.1.5 热压法 | 第38页 |
| 2.2.1.6 溶剂解取向法 | 第38-39页 |
| 2.2.1.7 湿压法 | 第39页 |
| 2.2.2 液晶材料的光控研究 | 第39-40页 |
| 2.2.2.1 6种液晶的红外光谱测定 | 第39页 |
| 2.2.2.2 6种液晶的溶剂化红外吸收测定 | 第39页 |
| 2.2.2.3 CN和S811偏光行为的研究 | 第39-40页 |
| 第三部分 结果与讨论 | 第40-69页 |
| 3.1 功能聚合物性能的研究 | 第40-60页 |
| 3.1.1 功能聚合物薄膜性能的研究 | 第40-42页 |
| 3.1.1.1 偏光薄膜耐热性的研究 | 第40页 |
| 3.1.1.2 薄膜浸润性能的比较 | 第40-42页 |
| 3.1.1.3 薄膜力学性能的比较 | 第42页 |
| 3.1.2 功能聚合物偏光特性研究 | 第42-44页 |
| 3.1.2.1 不同取向度薄膜的偏光现象 | 第42-43页 |
| 3.1.2.2 偏振薄膜干涉现象分析 | 第43-44页 |
| 3.1.3 偏光记忆图像的研究 | 第44-52页 |
| 3.1.3.1 潜像与显像之间的关系 | 第44-45页 |
| 3.1.3.2 紫外辐射法 | 第45-52页 |
| 3.1.3.2.1 图像表面形态的研究 | 第45-46页 |
| 3.1.3.2.2 偏光图像的红外吸收光谱 | 第46页 |
| 3.1.3.2.3 X射线衍射光谱 | 第46-47页 |
| 3.1.3.2.4 紫外透射光谱 | 第47-51页 |
| 3.1.3.2.5 交联度与曝光量的关系 | 第51页 |
| 3.1.3.2.6 分辨力的计算 | 第51页 |
| 3.1.3.2.7 偏光记忆图像照片 | 第51-52页 |
| 3.1.4 其它偏光成像的研究 | 第52-60页 |
| 3.1.4.1 CO_2激光烧蚀法 | 第52-54页 |
| 3.1.4.2 热压法 | 第54-56页 |
| 3.1.4.2.1 热压工艺 | 第54-55页 |
| 3.1.4.2.2 图像的耐热性 | 第55页 |
| 3.1.4.2.3 结晶度变化的测定 | 第55-56页 |
| 3.1.4.3 溶剂解取向法 | 第56-57页 |
| 3.1.4.4 湿压法 | 第57-60页 |
| 3.1.4.4.1 湿压工艺 | 第57页 |
| 3.1.4.4.2 湿压图像性质 | 第57-60页 |
| 3.2 液晶材料的光控研究 | 第60-69页 |
| 3.2.1 6种液晶红外光谱的测定 | 第61-62页 |
| 3.2.2 6种液晶的溶剂化效应 | 第62-63页 |
| 3.2.3 CN和S811的研究 | 第63-69页 |
| 3.2.3.1 不同偏振角度时CN和S811的紫外吸收光谱 | 第63-64页 |
| 3.2.3.2 CN和S811的温敏效应 | 第64-65页 |
| 3.2.3.3 S811的光敏效应 | 第65页 |
| 3.2.3.4 光固化液晶材料的研究 | 第65-69页 |
| 3.2.3.4.1 液晶在光固化体系中相变的观察 | 第65页 |
| 3.2.3.4.2 光固化液晶材料偏光行为的研究 | 第65-69页 |
| 第四章 结论 | 第69-71页 |
| 4.1 光敏高分子偏光记忆效应的研究 | 第69-70页 |
| 4.2 液晶材料偏振行为的研究 | 第70-71页 |
| 参考文献 | 第71-75页 |
| 研究成果及发表的学术论文 | 第75-76页 |
| 致谢 | 第76页 |