| 摘要 | 第4-5页 |
| Abstract | 第5-6页 |
| 第1章 绪论 | 第9-19页 |
| 1.1 课题来源及研究意义 | 第9-10页 |
| 1.1.1 课题来源 | 第9页 |
| 1.1.2 课题的研究意义 | 第9-10页 |
| 1.2 电解质-等离子抛光技术的概述 | 第10-11页 |
| 1.3 电解质-等离子加工技术研究现状及其发展趋势 | 第11-13页 |
| 1.4 铝合金抛光技术概况 | 第13-17页 |
| 1.4.1 机械抛光 | 第13-14页 |
| 1.4.2 化学抛光 | 第14-15页 |
| 1.4.3 电化学抛光 | 第15-16页 |
| 1.4.4 化学机械抛光 | 第16-17页 |
| 1.5 课题的主要研究内容 | 第17-19页 |
| 第2章 电解质-等离子抛光工艺及其机理分析 | 第19-25页 |
| 2.1 电解质-等离子抛光宏观原理分析 | 第19-20页 |
| 2.2 电解质-等离子抛光微观原理分析 | 第20-22页 |
| 2.3 化学反应对电解质-等离子抛光过程的影响 | 第22-23页 |
| 2.4 抛光过程中的伏安特性曲线 | 第23-24页 |
| 2.5 本章小结 | 第24-25页 |
| 第3章 电解质-等离子抛光机床设计 | 第25-33页 |
| 3.1 抛光设备的工艺参数要求 | 第25-26页 |
| 3.2 电解质-等离子抛光机床控制方案的选择 | 第26-29页 |
| 3.2.1 控制系统选择的一般流程 | 第26-27页 |
| 3.2.2 基于工控机的控制系统的选择 | 第27-29页 |
| 3.3 电解质-等离子抛光机床主机结构设计 | 第29-32页 |
| 3.3.1 主机基本结构及工作原理 | 第29-30页 |
| 3.3.2 50KW 电解质-等离子抛光设备的特点 | 第30-32页 |
| 3.4 本章小结 | 第32-33页 |
| 第4章 铝合金的电解质-等离子抛光工艺研究 | 第33-49页 |
| 4.1 试验对象的选材 | 第33页 |
| 4.2 材料表面状态的表征 | 第33-40页 |
| 4.2.1 表面粗糙度的检测 | 第34-36页 |
| 4.2.2 光反射率的检测 | 第36-40页 |
| 4.3 铝合金的电解质-等离子抛光正交试验 | 第40-48页 |
| 4.3.1 正交试验设计的步骤 | 第40-41页 |
| 4.3.2 正交试验结果分析 | 第41-48页 |
| 4.4 本章小结 | 第48-49页 |
| 第5章 电解质-等离子抛光表面性能的优化 | 第49-58页 |
| 5.1 优化手段的选取 | 第49-50页 |
| 5.2 电解抛光的原理分析 | 第50-51页 |
| 5.3 试验方法 | 第51-53页 |
| 5.3.1 试验平台的搭建 | 第51-53页 |
| 5.3.2 工艺参数的确定 | 第53页 |
| 5.4 优化结果分析 | 第53-57页 |
| 5.5 本章小结 | 第57-58页 |
| 结论 | 第58-59页 |
| 参考文献 | 第59-63页 |
| 致谢 | 第63页 |