| 摘要 | 第5-6页 |
| ABSTRACT | 第6页 |
| 第1章 绪论 | 第9-19页 |
| 1.1 选题背景与意义 | 第9-10页 |
| 1.2 国内外研究现状 | 第10-17页 |
| 1.2.1 表面电荷产生途径与测量方法 | 第10-14页 |
| 1.2.2 表面电荷积聚与消散特性研究 | 第14-16页 |
| 1.2.3 表面电荷积聚仿真研究 | 第16-17页 |
| 1.3 本文主要研究工作 | 第17-19页 |
| 第2章 材料加工与表面电位测量平台研制 | 第19-32页 |
| 2.1 不同表面粗糙度PMMA加工 | 第19-21页 |
| 2.1.1 表面粗糙度 | 第19-20页 |
| 2.1.2 不同表面粗糙度PMMA打磨 | 第20-21页 |
| 2.2 表面电位测量平台的研制 | 第21-30页 |
| 2.2.1 原有腔体结构 | 第22-23页 |
| 2.2.2 腔体新增结构 | 第23-25页 |
| 2.2.3 表面电位测量部分 | 第25-26页 |
| 2.2.4 机械传动控制部分 | 第26-28页 |
| 2.2.5 数据采集部分 | 第28-30页 |
| 2.3 表面电位测试平台调试 | 第30-31页 |
| 2.4 本章小结 | 第31-32页 |
| 第3章 不同表面粗糙度PMMA表面电荷动态特性实测与分析 | 第32-47页 |
| 3.1 实验步骤与方法 | 第32-33页 |
| 3.2 负极性电压下材料表面电荷动态特性 | 第33-39页 |
| 3.2.1 顺序打磨PMMA表面电位分布 | 第33-36页 |
| 3.2.2 乱序打磨PMMA表面电位分布 | 第36-39页 |
| 3.3 正极性电压下材料表面电荷动态特性 | 第39-44页 |
| 3.3.1 顺序打磨PMMA表面电位分布 | 第39-41页 |
| 3.3.2 乱序打磨PMMA表面电位分布 | 第41-44页 |
| 3.4 实验结果理论分析 | 第44-46页 |
| 3.5 本章小结 | 第46-47页 |
| 第4章 不同表面粗糙度PMMA表面电荷积聚特性仿真 | 第47-58页 |
| 4.1 仿真过程 | 第47-52页 |
| 4.1.1 模型构建与方法确定 | 第47-48页 |
| 4.1.2 电场计算 | 第48-49页 |
| 4.1.3 等离子体粒子模拟 | 第49-50页 |
| 4.1.4 粒子位置修正 | 第50-51页 |
| 4.1.5 二次电子发射 | 第51-52页 |
| 4.2 真空中不同表面粗糙度PMMA表面电荷积聚 | 第52-57页 |
| 4.2.1 电压对表面电荷积聚的影响 | 第52-55页 |
| 4.2.2 材料二次电子发射率对表面电荷积聚的影响 | 第55-56页 |
| 4.2.3 表面粗糙度对表面电荷积聚的影响 | 第56-57页 |
| 4.3 本章小结 | 第57-58页 |
| 第5章 结论与展望 | 第58-60页 |
| 5.1 主要结论 | 第58页 |
| 5.2 工作展望 | 第58-60页 |
| 参考文献 | 第60-63页 |
| 攻读硕士学位期间发表的论文及其他成果 | 第63-64页 |
| 攻读硕士学位期间参加的科研工作 | 第64-65页 |
| 致谢 | 第65页 |
