镉离子印迹硅胶材料的制备、表征、性能及应用
摘要 | 第1-7页 |
Abstract | 第7-10页 |
目录 | 第10-13页 |
第1章 前言 | 第13-43页 |
·水污染 | 第13-14页 |
·重金属污染 | 第14-18页 |
·镉的性质和用途 | 第15页 |
·镉的污染 | 第15-17页 |
·镉的毒性和危害 | 第17-18页 |
·分子印迹技术 | 第18-30页 |
·分子印迹技术的特点 | 第19页 |
·分子印迹原理 | 第19-20页 |
·分子印迹技术的分类 | 第20-22页 |
·分子印迹技术的理论研究 | 第22-25页 |
·分子印迹聚合物的选择性和亲和性机理 | 第25-27页 |
·分子印迹聚合物的制备方法 | 第27-30页 |
·分子印迹聚合物的应用 | 第30页 |
·离子印迹技术 | 第30-40页 |
·离子印迹技术的基本原理 | 第31-32页 |
·离子印迹技术的制备过程 | 第32页 |
·离子印迹聚合物的制备方法 | 第32-37页 |
·离子印迹聚合物的应用 | 第37-38页 |
·镉离子印迹聚合物的研究进展 | 第38-40页 |
·本文的研究目的 | 第40-41页 |
·本文的创新之处 | 第41-43页 |
第2章 镉离子印迹硅胶的制备和表征 | 第43-61页 |
·实验部分 | 第43-47页 |
·实验试剂 | 第43页 |
·实验仪器 | 第43-44页 |
·镉离子印迹硅胶材料的制备 | 第44-46页 |
·镉离子印迹硅胶材料的表征 | 第46-47页 |
·结果与讨论 | 第47-59页 |
·水热合成 | 第47页 |
·印迹硅胶制备过程 | 第47-49页 |
·离子印迹硅胶材料的红外光谱 | 第49-52页 |
·离子印迹硅胶材料的扫描电镜 | 第52-56页 |
·离子印迹硅胶材料的比表面积 | 第56-57页 |
·离子印迹硅胶材料的热分析 | 第57-59页 |
·本章小结 | 第59-61页 |
第3章 镉离子印迹硅胶的吸附性能研究 | 第61-87页 |
·实验部分 | 第61-66页 |
·实验试剂 | 第61页 |
·实验仪器 | 第61-62页 |
·饱和吸附容量的测量 | 第62页 |
·吸附速率 | 第62页 |
·pH值影响 | 第62-63页 |
·选择性研究 | 第63页 |
·镉离子的解吸研究 | 第63-64页 |
·再生性能研究 | 第64页 |
·火焰原子吸收(FAAS)测量方法 | 第64-66页 |
·结果与讨论 | 第66-85页 |
·饱和静态吸附容量 | 第66-71页 |
·吸附速率 | 第71-73页 |
·pH值影响 | 第73-77页 |
·选择识别能力 | 第77-80页 |
·解吸 | 第80-81页 |
·循环使用 | 第81-83页 |
·FAAS测量重金属的方法学 | 第83-85页 |
·本章小结 | 第85-87页 |
第4章 镉离子印迹硅胶的吸附机理研究 | 第87-107页 |
·实验部分 | 第87-90页 |
·试剂与仪器 | 第87页 |
·吸附模型 | 第87-88页 |
·吸附过程吸附热力学 | 第88-89页 |
·吸附动力学模型 | 第89-90页 |
·结果与讨论 | 第90-105页 |
·吸附模型 | 第90-95页 |
·吸附热力学分析 | 第95-101页 |
·吸附动力学 | 第101-105页 |
·本章小结 | 第105-107页 |
第5章 镉离子印迹硅胶去除水中镉的研究 | 第107-115页 |
·实验部分 | 第107-109页 |
·实验试剂 | 第107页 |
·实验仪器 | 第107-108页 |
·合成废水的配置 | 第108页 |
·工业废水的预处理 | 第108页 |
·镉离子印迹硅胶材料对废水中镉的去除 | 第108-109页 |
·结果与讨论 | 第109-112页 |
·硫氰基功能化镉离子印迹硅胶对合成废水中镉的去除 | 第109-110页 |
·胺基功能化镉离子印迹硅胶对合成废水中镉的去除 | 第110-111页 |
·巯基功能化镉离子印迹硅胶对合成废水中镉的去除 | 第111-112页 |
·三种镉离子印迹硅胶对工业废水中镉的去除 | 第112页 |
·本章小结 | 第112-115页 |
第6章 结论 | 第115-117页 |
参考文献 | 第117-127页 |
攻读博士期间发表的论文 | 第127-129页 |
致谢 | 第129页 |