氧化铁基纳米材料的结构设计、表征与光催化性能研究
| 摘要 | 第1-7页 |
| Abstract | 第7-11页 |
| 第1章 文献综述 | 第11-33页 |
| ·半导体光催化的发展及现状 | 第11-12页 |
| ·半导体光催化原理 | 第12-19页 |
| ·半导体光催化降解有机物的机理 | 第12-15页 |
| ·光催化反应过程的影响因素 | 第15-19页 |
| ·半导体光催化剂的改性途径 | 第19-24页 |
| ·氧化铁的结构和光电化学性质 | 第24-27页 |
| ·光催化剂纳米粒子的制备 | 第27-31页 |
| ·纳米晶在溶液中的生长 | 第27-29页 |
| ·溶胶-凝胶法 | 第29页 |
| ·微乳液法 | 第29-30页 |
| ·水热法/溶剂热法 | 第30-31页 |
| ·(共)沉淀法 | 第31页 |
| ·选题依据及研究内容 | 第31-33页 |
| 第2章 纳米氧化铁的可控制备与生长机制 | 第33-49页 |
| ·引言 | 第33-34页 |
| ·实验 | 第34-36页 |
| ·样品制备 | 第34-35页 |
| ·制备产物的表征 | 第35-36页 |
| ·结果与讨论 | 第36-48页 |
| ·产物的结构与形貌 | 第36-39页 |
| ·氧化铁的水热生长机制 | 第39-48页 |
| ·本章小结 | 第48-49页 |
| 第3章 规则纳米材料的表面晶体学TEM表征 | 第49-61页 |
| ·引言 | 第49-50页 |
| ·表征方法 | 第50-55页 |
| ·坐标系的选择 | 第51页 |
| ·图像坐标架中迹向量的选择 | 第51-52页 |
| ·坐标变换矩阵 | 第52-55页 |
| ·以六方形氧化铁纳米晶为例的应用 | 第55-57页 |
| ·本章小结 | 第57-61页 |
| 第4章 氧化铁纳米粒子的光催化 | 第61-81页 |
| ·材料与实验设备 | 第61-62页 |
| ·氧化铁光催化剂的制备 | 第62-63页 |
| ·光催化活性的评价 | 第63-64页 |
| ·氧化铁的光电性质 | 第64-66页 |
| ·光催化活性与结果讨论 | 第66-79页 |
| ·氧化铁投放量的影响 | 第66-67页 |
| ·染料初始浓度的影响 | 第67-72页 |
| ·溶液pH值对甲基橙光催化降解的影响 | 第72-73页 |
| ·氧水的影响 | 第73-75页 |
| ·α-Fe_2O_3光催化降解甲基橙的机制 | 第75页 |
| ·不同形貌氧化铁纳米晶的光催化活性 | 第75-78页 |
| ·氧化铁电子结构的DFT计算 | 第78-79页 |
| ·α-FeOOH纳米棒的光催化 | 第79-80页 |
| ·本章小结 | 第80-81页 |
| 第5章 氧化铁纳米结构的改性 | 第81-97页 |
| ·引言 | 第81-82页 |
| ·贵金属负载的影响 | 第82-89页 |
| ·氧化铁表面负载贵金属纳米粒子的制备 | 第82-83页 |
| ·光催化活性评价 | 第83页 |
| ·结果与讨论 | 第83-89页 |
| ·(羟基)氧化铁有序阵列的制备 | 第89-96页 |
| ·制备过程 | 第90-91页 |
| ·结果与讨论 | 第91-96页 |
| ·本章小结 | 第96-97页 |
| 第6章 结论与展望 | 第97-101页 |
| ·结论 | 第97-99页 |
| ·工作展望 | 第99-101页 |
| 参考文献 | 第101-113页 |
| 博士期间完成的论文 | 第113-114页 |
| 致谢 | 第114页 |
