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GaSb表面改性及光电性质研究

摘要第1-5页
ABSTRACT第5-6页
目录第6-7页
第一章 绪论第7-13页
   ·引言第7-8页
   ·半导体材料及GaSb的发展现状第8-10页
   ·半导体材料的表面态第10-12页
     ·表面态和复合中心第10-11页
     ·表面态对半导体器件的影响第11-12页
   ·本论文的研究内容第12-13页
第二章 GaSb材料性质及表面态第13-22页
   ·GaSb的材料性质第13-14页
   ·表面钝化的发展第14-21页
 本章小结第21-22页
第三章 半导体材料测试及分析技术第22-29页
   ·原子力显微镜第22页
   ·X射线光电子能谱分析第22页
   ·半导体光谱测试技术概述第22-23页
   ·光致发光概述第23-26页
     ·光致发光光谱第23-24页
     ·半导体中辐射复合跃迁第24-26页
   ·PL9000傅里叶变换光谱工作原理第26-27页
   ·GaSb材料中常见的发光峰位第27-28页
 本章小结第28-29页
第四章 GaSb钝化实验及结果分析第29-51页
   ·GaSb的钝化方法以及钝化溶液的选择第29页
   ·实验步骤第29-30页
   ·仪器介绍第30-32页
   ·实验结果及分析第32-50页
     ·GaSb表面钝化原理第32页
     ·P型GaSb钝化结果及分析第32-42页
     ·N型GaSb钝化结果及分析第42-50页
 本章小结第50-51页
结论与展望第51-52页
致谢第52-53页
发表论文第53-54页
参考文献第54-57页

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