| 摘要 | 第1-5页 |
| ABSTRACT | 第5-6页 |
| 目录 | 第6-7页 |
| 第一章 绪论 | 第7-10页 |
| ·光学薄膜的发展历程与应用 | 第7-8页 |
| ·本课题研究的主要内容 | 第8-10页 |
| 第二章 薄膜光学的基础理论 | 第10-23页 |
| ·薄膜光学的理论计算 | 第10-14页 |
| ·有效界面法 | 第14-16页 |
| ·干涉截止滤光片的膜系理论 | 第16-17页 |
| ·干涉截止滤光片截止带宽度 | 第17-20页 |
| ·长波通干涉截止滤光片透射带波纹的产生与压缩 | 第20-23页 |
| 第三章 长波通干涉截止滤光片的膜系设计 | 第23-29页 |
| ·镀膜材料的选取 | 第23页 |
| ·干涉截止滤光片膜系设计 | 第23-29页 |
| 第四章 真空镀膜设备 | 第29-35页 |
| ·真空镀膜设备简介 | 第29页 |
| ·真空室箱体及其内部附件 | 第29-30页 |
| ·排气系统 | 第30-33页 |
| ·薄膜厚度监控系统 | 第33-34页 |
| ·薄膜辅助淀积系统 | 第34-35页 |
| 第五章 长波通干涉截止滤光片的制备 | 第35-47页 |
| ·膜料光控Tooling和晶控Tooling的测定 | 第35-37页 |
| ·长波通干涉截止滤光片的制备过程 | 第37-42页 |
| ·测试结果与误差分析 | 第42-43页 |
| ·离子源工艺参数的修改 | 第43-45页 |
| ·离子源参数修改后的测试结果 | 第45-47页 |
| 结论 | 第47-48页 |
| 致谢 | 第48-49页 |
| 参考文献 | 第49-50页 |