超低温压力传感器的结构设计
| 摘要 | 第1-5页 |
| Abstract | 第5-8页 |
| 1 绪论 | 第8-17页 |
| ·超低温压力传感器的研究背景及意义 | 第8-9页 |
| ·压力传感器的发展历程及发展趋势 | 第9-10页 |
| ·国内外研究现状 | 第10-16页 |
| ·国外研究现状 | 第10-15页 |
| ·国内研究现状 | 第15-16页 |
| ·课题的主要研究内容 | 第16-17页 |
| 2 超低温压力传感器研究的理论基础 | 第17-28页 |
| ·压阻式压力传感器的工作原理 | 第17-19页 |
| ·压阻效应 | 第19-22页 |
| ·硅的压阻效应 | 第19-20页 |
| ·多晶硅的压阻效应 | 第20-22页 |
| ·压阻系数及影响因素 | 第22-24页 |
| ·压力传感器的温度漂移 | 第24-25页 |
| ·压力传感器的供电电源 | 第25-27页 |
| ·本章小结 | 第27-28页 |
| 3 超低温压力传感器压敏材料研究及传感器结构设计 | 第28-41页 |
| ·多晶硅纳米薄膜的工作机理和特性研究 | 第28-32页 |
| ·多晶硅纳米薄膜的压阻效应 | 第28-31页 |
| ·多晶硅纳米薄膜的应变因子 | 第31-32页 |
| ·硅弹性膜片形状的仿真分析 | 第32-34页 |
| ·硅弹性膜片厚度的仿真分析与选择 | 第34-36页 |
| ·多晶硅纳米薄膜电阻的放置位置确定 | 第36-39页 |
| ·温度传感器 | 第39-40页 |
| ·本章小结 | 第40-41页 |
| 4 传感器的版图设计及加工工艺研究 | 第41-54页 |
| ·压力传感器的制作工艺 | 第41-48页 |
| ·氧化 | 第41-42页 |
| ·光刻 | 第42-44页 |
| ·低压化学气相淀积 | 第44页 |
| ·离子注入 | 第44-45页 |
| ·反应离子刻蚀 | 第45-46页 |
| ·腐蚀 | 第46-47页 |
| ·欧姆接触 | 第47-48页 |
| ·剥离工艺 | 第48页 |
| ·压力传感器的制作工艺流程及版图 | 第48-52页 |
| ·制作传感器的工艺 | 第48-51页 |
| ·制作传感器的版图 | 第51-52页 |
| ·本章小结 | 第52-54页 |
| 5 传感器封装结构及封装工艺研究 | 第54-57页 |
| ·低温下压力传感器的封装结构设计 | 第54-55页 |
| ·传感器封装工艺研究 | 第55-56页 |
| ·本章小结 | 第56-57页 |
| 6 总结和展望 | 第57-58页 |
| 参考文献 | 第58-61页 |
| 攻读硕士学位期间发表的论文 | 第61-62页 |
| 致谢 | 第62页 |
