| 摘要 | 第1-7页 |
| ABSTRACT | 第7-12页 |
| 第一章 绪论 | 第12-22页 |
| ·研究背景 | 第12-13页 |
| ·CVD 金刚石膜概论 | 第13-16页 |
| ·金刚石的结构 | 第13页 |
| ·金刚石膜的性能 | 第13-16页 |
| ·金刚石膜的制备方法及原理 | 第16-17页 |
| ·金刚石膜的制备方法 | 第16页 |
| ·金刚石膜的制备原理 | 第16-17页 |
| ·钢铁基体 CVD 金刚石膜的研究现状 | 第17-20页 |
| ·平直界面结构过渡层 | 第18-19页 |
| ·镶嵌结构界面过渡层 | 第19-20页 |
| ·本文研究的内容和意义 | 第20-22页 |
| ·本文研究的内容 | 第20-21页 |
| ·本文研究的意义 | 第21-22页 |
| 第二章 实验材料设备及表征 | 第22-36页 |
| ·实验流程 | 第22-23页 |
| ·实验材料 | 第23-24页 |
| ·制备样品的关键步骤、原理及其设备 | 第24-34页 |
| ·磁控溅射 Cr/Cu 膜 | 第24-27页 |
| ·复合电镀 | 第27-31页 |
| ·热丝化学气相沉积金刚石膜 | 第31-34页 |
| ·表征方法 | 第34-36页 |
| ·扫描电子显微镜 | 第34页 |
| ·X 射线衍射仪 | 第34-35页 |
| ·共聚焦激光拉曼光谱仪 | 第35页 |
| ·表面洛氏硬度计 | 第35-36页 |
| 第三章 扩散阻挡层的制备与性能研究 | 第36-54页 |
| ·引言 | 第36-37页 |
| ·采用电镀法制备 Cr/Cu 膜 | 第37-39页 |
| ·电镀 Cr-Cu 膜的形貌和相分析 | 第37-38页 |
| ·电镀 Cr/Cu 膜的退火热处理 | 第38-39页 |
| ·磁控溅射法制备 Cr/Cu 双层膜 | 第39-47页 |
| ·磁控溅射 Cr/Cu 双层膜的形貌和相分析 | 第39-40页 |
| ·磁控溅射 Cr/Cu 膜的结合力测试 | 第40-43页 |
| ·制备金刚石膜 | 第43-47页 |
| ·磁控溅射 Cr/Cu 膜的改进 | 第47-52页 |
| ·磁控溅射 Cr/Cu 膜的形貌分析 | 第47页 |
| ·制备金刚石膜 | 第47-49页 |
| ·界面分析 | 第49-52页 |
| ·本章小结 | 第52-54页 |
| 第四章 钢基体镶嵌过渡层上 HFCVD 工艺研究 | 第54-69页 |
| ·引言 | 第54-56页 |
| ·钨丝功率 | 第56-62页 |
| ·表面形貌分析 | 第56-59页 |
| ·XRD 分析 | 第59-60页 |
| ·拉曼光谱分析 | 第60-62页 |
| ·工作炉压 | 第62-65页 |
| ·表面形貌 | 第62-64页 |
| ·拉曼光谱分析 | 第64-65页 |
| ·甲烷浓度 | 第65-68页 |
| ·表面形貌分析 | 第65-67页 |
| ·拉曼光谱分析 | 第67-68页 |
| ·本章小结 | 第68-69页 |
| 第五章 钢基镶嵌结构金刚石膜的附着性能研究 | 第69-83页 |
| ·引言 | 第69-71页 |
| ·制备不同金刚石粒度的复合镀层 | 第71-74页 |
| ·HFCVD 金刚石膜样品的制备 | 第74-77页 |
| ·不同金刚石粒度的复合镀层沉积金刚石膜的拉曼分析 | 第77-78页 |
| ·不同金刚石粒度的复合镀层沉积金刚石膜的结合力分析 | 第78-82页 |
| ·本章小结 | 第82-83页 |
| 结论与展望 | 第83-85页 |
| 参考文献 | 第85-91页 |
| 攻读硕士学位期间取得的研究成果 | 第91-92页 |
| 致谢 | 第92-93页 |
| 附件 | 第93页 |