ZnO薄膜的制备及光电特性研究
| 摘要 | 第1-5页 |
| Abstract | 第5-11页 |
| 第一章 绪论 | 第11-23页 |
| ·ZnO 的研究背景 | 第11页 |
| ·ZnO 的基本性质及应用 | 第11-15页 |
| ·ZnO 的结构 | 第11-13页 |
| ·ZnO 的特性 | 第13-14页 |
| ·ZnO 的应用 | 第14-15页 |
| ·ZnO 薄膜的掺杂 | 第15-17页 |
| ·ZnO 薄膜的n 型掺杂 | 第15页 |
| ·ZnO 薄膜的p 型掺杂 | 第15-17页 |
| ·ZnO 薄膜的制备方法 | 第17-21页 |
| ·溶胶－凝胶法 | 第17-18页 |
| ·磁控溅射法 | 第18-20页 |
| ·化学气相沉积法 | 第20页 |
| ·分子束外延法 | 第20-21页 |
| ·脉冲激光沉积 | 第21页 |
| ·本文研究思路及内容 | 第21-23页 |
| ·研究内容 | 第21页 |
| ·技术路线 | 第21-23页 |
| 第二章 ZnO 薄膜的制备及表征方法 | 第23-33页 |
| ·溶胶－凝胶旋涂法 | 第23-24页 |
| ·磁控溅射镀膜 | 第24-25页 |
| ·表征方法 | 第25-33页 |
| ·X 射线衍射仪 | 第26-27页 |
| ·扫描电子显微镜 | 第27页 |
| ·原子力显微镜 | 第27-28页 |
| ·紫外可见分光光度计 | 第28页 |
| ·荧光光谱仪 | 第28-29页 |
| ·拉曼光谱仪 | 第29页 |
| ·四探针 | 第29-30页 |
| ·霍尔效应测试仪 | 第30-32页 |
| ·台阶仪 | 第32-33页 |
| 第三章 溶胶-凝胶法实验结果与讨论 | 第33-41页 |
| ·实验过程 | 第33页 |
| ·结构分析 | 第33-34页 |
| ·Al 掺杂对结构的影响 | 第33-34页 |
| ·退火温度对结构的影响 | 第34页 |
| ·形貌分析 | 第34-35页 |
| ·光透过性分析 | 第35-37页 |
| ·Al 掺杂对光透过性的影响 | 第35-36页 |
| ·退火温度对光透光性的影响 | 第36-37页 |
| ·电学性能分析 | 第37页 |
| ·ZnO 减反射层在电池中的应用 | 第37-40页 |
| ·实验过程 | 第37-38页 |
| ·结构分析 | 第38页 |
| ·反射率分析 | 第38-39页 |
| ·单晶硅电池测试 | 第39-40页 |
| ·本章小结 | 第40-41页 |
| 第四章 磁控溅射法实验结果与讨论 | 第41-61页 |
| ·ZnO 薄膜的研究 | 第41-43页 |
| ·ZnO 薄膜的结构 | 第41-42页 |
| ·ZnO 薄膜的透光性 | 第42页 |
| ·ZnO 薄膜的光致发光 | 第42-43页 |
| ·Al 掺杂ZnO 薄膜的研究 | 第43-53页 |
| ·Al 掺杂对光电性能的影响 | 第44-46页 |
| ·溅射功率对光学性能的影响 | 第46-47页 |
| ·生长温度对 Al3at%薄膜性能的影响 | 第47-52页 |
| ·结构分析 | 第47-48页 |
| ·形貌分析 | 第48页 |
| ·电学性能分析 | 第48-49页 |
| ·光透过性分析 | 第49-51页 |
| ·光致发光 | 第51-52页 |
| ·氢退火对电学性能的影响 | 第52-53页 |
| ·N 掺杂ZnO 薄膜的研究 | 第53-60页 |
| ·结构分析 | 第54-55页 |
| ·形貌分析 | 第55-56页 |
| ·拉曼分析 | 第56-59页 |
| ·光透过性分析 | 第59页 |
| ·光致发光 | 第59-60页 |
| ·本章小结 | 第60-61页 |
| 第五章 结论 | 第61-62页 |
| 参考文献 | 第62-68页 |
| 致谢 | 第68-69页 |
| 在学期间的研究成果及发表的学术论文 | 第69-70页 |
| 攻读硕士学位期间参加科研项目情况 | 第70页 |
