| 第一章 文献综述 | 第1-35页 |
| 第1节 表面图案化技术 | 第9-22页 |
| ·表面结构图案化技术 | 第9-18页 |
| ·光刻技术(lithography) | 第9-13页 |
| ·物理接触(physical contact)图案化技术 | 第13-14页 |
| ·软光刻技术(soft lithography) | 第14-17页 |
| ·软光刻技术简介 | 第14-15页 |
| ·微接触印刷(μCP) | 第15-17页 |
| ·自组装(self-assembly)结构图案化技术 | 第17-18页 |
| ·表面性质图案化技术 | 第18-22页 |
| ·气相沉积(vapor deposition)技术 | 第18-19页 |
| ·LB(Langmuir-Blodgett)单分子膜层图案化技术 | 第19页 |
| ·自组装单层膜SAMs(self-assembled monolayers)图案化技术 | 第19-22页 |
| 第2节 无机、有机材料的表面图案化 | 第22-34页 |
| ·磁性纳米微粒的表面图案化 | 第22-28页 |
| ·利用光刻技术图案化磁性纳米微粒 | 第22-23页 |
| ·利用微接触印刷图案化磁性纳米微粒 | 第23-24页 |
| ·利用浸笔纳米光刻(DPN)图案化磁性纳米微粒 | 第24-25页 |
| ·利用纳米微球光刻图案化磁性纳米微粒 | 第25-26页 |
| ·磁环(magnetic ring) 结构 | 第26-28页 |
| ·有机聚合物的表面图案化 | 第28-34页 |
| ·活性自由基聚合在表面图案化中的应用 | 第28-29页 |
| ·原子转移自由基聚合在聚合物图案化中的应用 | 第29-32页 |
| ·二元聚合物的图案化 | 第32-34页 |
| 第3节 本文的意义及选题思路 | 第34-35页 |
| 第二章 基于去润湿和热分解反应构筑二维有序的无机 Fe_3O_4磁环阵列 | 第35-48页 |
| 第1节 引言 | 第35-36页 |
| 第2节 实验部分 | 第36-38页 |
| ·实验材料 | 第36页 |
| ·实验方法 | 第36-38页 |
| ·微接触印刷(μCP·) | 第36-37页 |
| ·二维有序排列的无机Fe_3O_4 环的构筑 | 第37-38页 |
| ·表征仪器 | 第38页 |
| 第3节 结果与讨论 | 第38-47页 |
| ·二维有序排列的图案化自组装单层膜 | 第38-39页 |
| ·二维有序的Fe(acac)_3环形阵列 | 第39-42页 |
| ·二维有序的无机磁性Fe_3O_4环形阵列 | 第42-47页 |
| 第4节 本章小结 | 第47-48页 |
| 第三章 结合光刻技术、氧等离子体刻蚀和原子转移自由基聚合反应构筑二元有机聚合物图案 | 第48-65页 |
| 第1节 引言 | 第48-49页 |
| 第2节 实验部分 | 第49-52页 |
| ·实验材料 | 第49页 |
| ·实验方法 | 第49-52页 |
| ·单晶硅片的处理 | 第50页 |
| ·PMMA 薄膜的制备 | 第50-51页 |
| ·引发剂的接枝 | 第50-51页 |
| ·聚合物薄膜的接枝 | 第51页 |
| ·引发剂去活化 | 第51页 |
| ·光刻 | 第51页 |
| ·氧等离子体刻蚀 | 第51页 |
| ·光刻胶的去除 | 第51-52页 |
| ·接枝第二种聚合物---PCDMA | 第52页 |
| ·表征仪器 | 第52页 |
| 第3节 结果与讨论 | 第52-64页 |
| ·图案化的PMMA膜层的制备 | 第52-60页 |
| ·引发剂的接枝 | 第52-53页 |
| ·表面接枝的PMMA薄膜的表征 | 第53-54页 |
| ·聚甲基丙烯酸甲酯薄膜的图案化 | 第54-60页 |
| ·二元表面接枝聚合物图案的构筑 | 第60-64页 |
| 第4节 本章小结 | 第64-65页 |
| 参考文献 | 第65-76页 |
| 发表论文 | 第76-77页 |
| 中文摘要 | 第77-79页 |
| 英文摘要 | 第79-82页 |
| 致谢 | 第82页 |
