多孔硅、纳米金属颗粒复合材料的制备及表征
| 第一章 绪论 | 第1-29页 |
| ·多孔硅概述 | 第11-18页 |
| ·多孔硅的形成机制 | 第11-13页 |
| ·阳极氧化条件对多孔硅形成的影响 | 第13-14页 |
| ·多孔硅的发光机理 | 第14-15页 |
| ·多孔硅的应用 | 第15-18页 |
| ·纳米金属概述 | 第18-21页 |
| ·多孔硅／金属复合材料概述 | 第21-23页 |
| ·纳米复合材料概述 | 第23-27页 |
| ·纳米复合材料的应用 | 第24-25页 |
| ·纳米复合材料的制备方法 | 第25-27页 |
| ·纳米复合材料的前景与展望 | 第27页 |
| ·本论文的研究内容和技术路线 | 第27-29页 |
| 第二章 实验装置和测试手段 | 第29-36页 |
| ·形成多孔硅的电化学腐蚀装置 | 第29-31页 |
| ·几种淀积技术介绍 | 第31-32页 |
| ·测试手段 | 第32-35页 |
| ·本章小结 | 第35-36页 |
| 第三章 多孔硅／纳米铜复合结构的形成 | 第36-49页 |
| ·浸泡法淀积金属铜 | 第36-41页 |
| ·P型硅衬底的金属淀积 | 第36-38页 |
| ·N型硅衬底的金属淀积 | 第38-41页 |
| ·电镀法淀积铜 | 第41-48页 |
| ·实验过程 | 第41-42页 |
| ·实验结果及其表征 | 第42-48页 |
| ·本章小结 | 第48-49页 |
| 第四章 热分解法形成多孔硅／纳米银复合结构 | 第49-56页 |
| ·实验过程 | 第49-50页 |
| ·X射线衍射分析(XRD) | 第50-52页 |
| ·样品的扫描电镜图(SEM) | 第52页 |
| ·复合结构电阻值的测量 | 第52-54页 |
| ·淀积银后样品的拉曼谱 | 第54-55页 |
| ·本章小结 | 第55-56页 |
| 第五章 纳米金胶的制备及其在多孔硅衬底上的沉积 | 第56-63页 |
| ·纳米金胶的研究意义及其应用 | 第56-58页 |
| ·实验过程 | 第58-59页 |
| ·金胶的扫描电镜 | 第59-62页 |
| ·拉曼光谱的测量 | 第62页 |
| ·本章小结 | 第62-63页 |
| 第六章 总结 | 第63-64页 |
| 参考文献 | 第64-69页 |
| 致谢 | 第69-70页 |
