金刚石薄膜压力传感器研制
| 摘要 | 第1-5页 |
| ABSTRACT | 第5-9页 |
| 第一章 绪论 | 第9-27页 |
| ·化学气相沉积(CVD)金刚石膜的发展概述 | 第9-23页 |
| ·金刚石的晶体结构 | 第9页 |
| ·金刚石及其薄膜基本性质 | 第9-12页 |
| ·新型半导体材料-金刚石的应用前景 | 第12-14页 |
| ·金刚石薄膜CVD生长机理研究回顾 | 第14-16页 |
| ·CVD金刚石膜主要制备方法 | 第16-22页 |
| ·CVD金刚石膜技术开发的发展趋势 | 第22-23页 |
| ·金刚石膜压力传感器研究的意义 | 第23-24页 |
| ·金刚石薄膜压力传感器-国内外研究现状 | 第24-25页 |
| ·本文主要研究内容和创新点 | 第25-27页 |
| 第二章 掺杂金刚石膜压阻效应机理探讨 | 第27-46页 |
| ·半导体压阻效应的基础理论 | 第27-28页 |
| ·半导体能带和形变势理论 | 第28-29页 |
| ·半导体能带 | 第28-29页 |
| ·形变势理论 | 第29页 |
| ·应变对电阻率的影响 | 第29-34页 |
| ·应变对载流子浓度的影响 | 第29-31页 |
| ·散射机制 | 第31-32页 |
| ·单晶金刚石的压阻效应 | 第32-34页 |
| ·多晶体的压阻效应 | 第34-46页 |
| ·几种晶粒间界模型 | 第34-37页 |
| ·波耳兹曼传输方程 | 第37-38页 |
| ·Mayadas-Shatzkes模型 | 第38-39页 |
| ·多晶金刚石薄膜的压阻效应 | 第39-43页 |
| ·压阻效应机理的研究 | 第43-46页 |
| 第三章 金刚石薄膜压力传感器制备 | 第46-67页 |
| ·金刚石薄膜压力传感器原理和结构 | 第46-48页 |
| ·本征金刚石膜片的生长 | 第48-59页 |
| ·掺杂金刚石薄膜压敏电阻的沉积 | 第59-63页 |
| ·掺杂金刚石薄膜的定向生长 | 第60页 |
| ·掺杂金刚石薄膜压敏电阻图案形成 | 第60-63页 |
| ·掺硼金刚石薄膜的欧姆接触 | 第63-67页 |
| 第四章 压敏电阻的优化设计 | 第67-91页 |
| ·有限单元法概述 | 第67-69页 |
| ·ANSYS软件简介 | 第69-72页 |
| ·压力传感器的芯片版图设计(Ⅰ) | 第72-80页 |
| ·压力传感器的芯片版图设计(Ⅱ) | 第80-91页 |
| 第五章 金刚石薄膜压力传感器数据采集系统设计 | 第91-100页 |
| ·压力传感器桥路 | 第91-92页 |
| ·数据采集系统硬件设计 | 第92-94页 |
| ·传感器供电电路 | 第92-93页 |
| ·信号调理电路 | 第93-94页 |
| ·微处理器-AT90S8535 | 第94页 |
| ·非线性标度变换方法 | 第94-99页 |
| ·自校零与自校准 | 第99-100页 |
| 第六章 金刚石薄膜压力传感器测试 | 第100-103页 |
| 结论 | 第103-104页 |
| 参考文献 | 第104-109页 |
| 致谢 | 第109-110页 |
| 攻读学位期间所取得的相关科研成果 | 第110页 |
