| 摘要 | 第1-6页 |
| ABSTRACT | 第6-7页 |
| 目录 | 第7-9页 |
| 第一章 综述 | 第9-18页 |
| ·SAWF的结构原理 | 第9-14页 |
| ·SAWF的结构原理 | 第10-11页 |
| ·金刚石多层膜SAWF的结构原理 | 第11-13页 |
| ·SAWF的发展现状和趋势 | 第13页 |
| ·SAWF的应用 | 第13-14页 |
| ·大功率SAW器件的材料工艺研究 | 第14-16页 |
| ·高热导率金刚石薄膜的制备 | 第14-15页 |
| ·铝电极制备 | 第15页 |
| ·压电薄膜的制备 | 第15-16页 |
| ·研究意义及主要工作 | 第16-18页 |
| 第二章 金刚石/硅复合膜的导热特性的研究 | 第18-29页 |
| ·金刚石结构和金刚石薄膜 | 第18-21页 |
| ·金刚石薄膜的结构及其优异特性 | 第18-20页 |
| ·影响金刚石热导率的因素 | 第20页 |
| ·金刚石薄膜热导率的研究现状 | 第20-21页 |
| ·金刚石/硅复合膜热导率的研究 | 第21-28页 |
| ·金刚石/硅复合膜的制备与测量 | 第21-24页 |
| ·金刚石/硅复合膜热导率的分析研究 | 第24-28页 |
| ·本章小结 | 第28-29页 |
| 第三章 ZnO/Si和ZnO/金刚石多层膜的制备 | 第29-55页 |
| ·ZnO的性质和用途 | 第29-31页 |
| ·ZnO的结构及其优异特性 | 第29-30页 |
| ·ZnO的用途 | 第30页 |
| ·ZnO的发展方向 | 第30-31页 |
| ·磁控溅射法制备ZnO薄膜的工艺 | 第31-36页 |
| ·磁控溅射原理 | 第31-34页 |
| ·预处理 | 第34-35页 |
| ·制备过程 | 第35-36页 |
| ·薄膜的分析手段 | 第36页 |
| ·衬底温度对ZnO薄膜的影响 | 第36-48页 |
| ·Si(100)衬底 | 第36-43页 |
| ·金刚石衬底 | 第43-48页 |
| ·不同衬底上ZnO薄膜的比较 | 第48-54页 |
| ·XRD的比较 | 第48-50页 |
| ·摇摆曲线(XRC)的比较 | 第50-52页 |
| ·SEM的比较 | 第52-54页 |
| ·本章小结 | 第54-55页 |
| 第四章 ZnO/Al/Si和ZnO/Al/金刚石多层膜的制备初探 | 第55-68页 |
| ·ZnO/Al/Si多层膜的制备 | 第55-62页 |
| ·Al/Si的制备及表征 | 第55-57页 |
| ·在Al/Si上溅射ZnO薄膜及其分析 | 第57-62页 |
| ·ZnO/Al/金刚石多层膜的制备及分析 | 第62-66页 |
| ·ZnO/Al/金刚石多层膜的制备 | 第62页 |
| ·ZnO/Al/金刚石多层膜的XRD分析 | 第62-64页 |
| ·ZnO/Al/金刚石多层膜的SEM分析 | 第64-66页 |
| ·ZnO/IDT(Al)/金刚石多层膜的制备 | 第66-67页 |
| ·本章小结 | 第67-68页 |
| 第五章 全文总结 | 第68-69页 |
| 参考文献 | 第69-73页 |
| 发表论文及参与科研 | 第73-74页 |
| 致谢 | 第74页 |