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自旋轨道扭矩的调控及磁畴翻转过程研究

摘要第5-6页
ABSTRACT第6-7页
第1章 绪论第11-37页
    1.1 引言第11-12页
    1.2 磁性与磁畴第12-22页
        1.2.1 磁性的起源第12-16页
        1.2.2 磁畴和垂直磁各向异性第16-20页
        1.2.3 手性畴壁第20-22页
    1.3 电控磁效应第22-28页
        1.3.1 多铁材料中的磁电耦合效应第23页
        1.3.2 电控磁各向异性第23-26页
        1.3.3 自旋转移扭矩第26-28页
    1.4 自旋轨道扭矩第28-35页
        1.4.1 自旋轨道扭矩起源第29-31页
        1.4.2 磁畴翻转动态过程第31-32页
        1.4.3 自旋轨道扭矩研究现状第32-35页
    1.5 本文研究目的和内容第35-37页
第2章 实验方法第37-47页
    2.1 样品制备第37-40页
        2.1.1 磁控溅射第37-38页
        2.1.2 紫外光刻技术第38-39页
        2.1.3 Ar离子刻蚀第39页
        2.1.4 真空热蒸镀第39-40页
    2.2 样品表征第40-47页
        2.2.1 原子力显微镜(AFM)第40页
        2.2.2 X射线光电子能谱(XPS)第40-41页
        2.2.3 超导量子干涉仪(SQUID)第41页
        2.2.4 磁光克尔磁强计和显微镜第41-44页
        2.2.5 反常霍尔效应第44-47页
第3章 Ta/W/CoFeB/MgO多层膜中增强的自旋轨道扭矩和垂直磁各向异性第47-57页
    3.1 引言第47-48页
    3.2 样品制备第48-49页
    3.3 实验结果与分析第49-55页
        3.3.1 样品磁性第49-50页
        3.3.2 样品的电阻率和霍尔电阻第50-51页
        3.3.3 平面霍尔效应第51-52页
        3.3.4 电流诱导的有效场和自旋霍尔角第52-55页
        3.3.5 电流诱导磁化翻转第55页
    3.4 本章小结第55-57页
第4章 超薄W插层对Ta/CoFeB中自旋轨道扭矩的调控第57-69页
    4.1 引言第57-58页
    4.2 样品制备第58页
    4.3 结果与讨论第58-67页
        4.3.1 器件形貌和样品磁性第58-60页
        4.3.2 电流诱导的等效场第60-63页
        4.3.3 双层重金属自旋霍尔角第63-64页
        4.3.4 电流诱导磁化翻转相图第64-65页
        4.3.5 磁化翻转中的磁畴形态第65-67页
    4.4 本章小结第67-69页
第5章 氧化物插层对Pt/CoFe中自旋轨道扭矩的调控第69-79页
    5.1 引言第69页
    5.2 样品制备第69-70页
    5.3 结果与讨论第70-78页
        5.3.1 样品表面形貌和磁性能第70-71页
        5.3.2 电流诱导等效场和自旋霍尔角第71-73页
        5.3.3 电流诱导磁化翻转相图第73-74页
        5.3.4 DMI等效场测量第74-75页
        5.3.5 磁化翻转的磁畴形态第75-77页
        5.3.6 Pt,Co,Ni的价态第77-78页
    5.4 本章小结第78-79页
第6章 结论第79-81页
参考文献第81-95页
致谢第95-97页
攻读博士学位期间的学术成果第97页

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