| 摘要 | 第3-4页 |
| abstract | 第4页 |
| 第一章 绪论 | 第7-13页 |
| 1.1 集成光学的发展 | 第7页 |
| 1.2 集成光学器件材料的选取 | 第7-8页 |
| 1.3 铌酸锂晶体的性能 | 第8页 |
| 1.4 铌酸锂晶体的掺杂改性 | 第8-10页 |
| 1.4.1 抗光折变的掺杂 | 第9页 |
| 1.4.2 有源离子的掺杂 | 第9-10页 |
| 1.5 铌酸锂波导的制备工艺 | 第10-11页 |
| 1.6 本论文的工作和意义 | 第11-13页 |
| 第二章 扩散理论综述 | 第13-21页 |
| 2.1 铌酸锂晶体结构 | 第13-14页 |
| 2.2 晶体扩散理论 | 第14-18页 |
| 2.2.1 菲克定律 | 第14-16页 |
| 2.2.2 影响扩散的因素 | 第16-17页 |
| 2.2.3 扩散的微观机制 | 第17-18页 |
| 2.3 扩散研究方法 | 第18-21页 |
| 2.3.1 二次离子质谱分析 | 第18-20页 |
| 2.3.2 扫描隧道电子显微镜技术 | 第20-21页 |
| 第三章 光波导理论基础 | 第21-31页 |
| 3.1 麦克斯韦方程组 | 第21-22页 |
| 3.2 平面介质光波导 | 第22-25页 |
| 3.2.1 平面介质光波导模型 | 第22-23页 |
| 3.2.2 平面型光波导传输模式分析 | 第23-25页 |
| 3.3 条形光波导传输模式分析 | 第25-31页 |
| 3.3.1 马克帝里(Marcatili)近似 | 第26-29页 |
| 3.3.2 有效折射率法 | 第29-31页 |
| 第四章 镓扩散铌酸锂晶体单模条形光波导的制备及表征 | 第31-57页 |
| 4.1 靶材的制作 | 第31-35页 |
| 4.1.1 压制氧化镓靶材 | 第32-34页 |
| 4.1.2 烧结 | 第34-35页 |
| 4.2 铌酸锂晶片的切割清洗 | 第35-37页 |
| 4.3 光波导的制备工艺 | 第37-44页 |
| 4.3.1 光刻工艺 | 第37-41页 |
| 4.3.2 镀膜工艺 | 第41-43页 |
| 4.3.3 抛光工艺 | 第43-44页 |
| 4.4 相关仪器的使用及工作原理 | 第44-47页 |
| 4.4.1 棱镜耦合仪简介 | 第45-46页 |
| 4.4.2 台阶仪简介 | 第46-47页 |
| 4.5 光波导的制备及表征 | 第47-57页 |
| 4.5.1 镓扩散铌酸锂晶体单模条形光波导的制备及表征 | 第47-54页 |
| 4.5.2 镓扩散钽酸锂单模条形光波导 | 第54-57页 |
| 第五章 铒镓共掺钛扩散铌酸锂晶体条形光波导的制备及表征 | 第57-67页 |
| 5.1 铒镓共掺钛扩散铌酸锂晶体单模条形光波导的制备及表征 | 第57-61页 |
| 5.1.1 Ti:Ga:Er:LN单模条形光波导的制备 | 第57-58页 |
| 5.1.2 Ti:Ga:Er:LN单模条形光波导光学特性的表征 | 第58-61页 |
| 5.2 Ti:Ga:Er:LN单模条形光波导信号增强因子的测定 | 第61-67页 |
| 5.2.1 Er离子 | 第61页 |
| 5.2.2 信号增强因子的测定及分析 | 第61-67页 |
| 第六章 总结与展望 | 第67-69页 |
| 参考文献 | 第69-73页 |
| 发表论文和参加科研情况说明 | 第73-75页 |
| 致谢 | 第75页 |
