| 摘要 | 第4-5页 |
| Abstract | 第5页 |
| 第1章 绪论 | 第8-12页 |
| 1.1 射流控制的研究背景及意义 | 第8-9页 |
| 1.2 国内外研究现状及分析 | 第9-11页 |
| 1.2.1 国外研究现状 | 第9-10页 |
| 1.2.2 国内研究现状 | 第10-11页 |
| 1.3 本课题主要研究内容 | 第11-12页 |
| 第2章 实验设备 | 第12-17页 |
| 2.1 引言 | 第12页 |
| 2.2 实验设备 | 第12-15页 |
| 2.2.1 射流实验台 | 第12页 |
| 2.2.2 射流实验装置 | 第12-15页 |
| 2.3 热线测量技术 | 第15-16页 |
| 2.3.1 热线的组成及工作原理 | 第15页 |
| 2.3.2 热线的使用方法 | 第15-16页 |
| 2.4 本章小结 | 第16-17页 |
| 第3章 不同雷诺数对自由射流统计量的实验研究 | 第17-29页 |
| 3.1 引言 | 第17页 |
| 3.2 测量结果 | 第17-27页 |
| 3.2.1 射流出口条件 | 第17-18页 |
| 3.2.2 射流轴向发展 | 第18-23页 |
| 3.2.3 射流轴向剖面速度分布 | 第23-25页 |
| 3.2.4 自由射流的大涡拟序结构频率 | 第25-27页 |
| 3.3 本章小结 | 第27-29页 |
| 第4章 微射流对不同雷诺数射流扰动的实验研究 | 第29-48页 |
| 4.1 引言 | 第29页 |
| 4.2 基于微射流的射流轴向发展 | 第29-36页 |
| 4.2.1 微射流C_m=0.19% | 第29-31页 |
| 4.2.2 微射流C_m=0.44% | 第31-33页 |
| 4.2.3 微射流C_m=2.31% | 第33-36页 |
| 4.3 速度衰减率K_2在不同频率比下随C_m的变化 | 第36-40页 |
| 4.4 受周期性脉冲微射流后流场的混合与扩散 | 第40-47页 |
| 4.4.1 两组低雷诺数(4×10~3和8×10~3)受控射流的扩散现象 | 第41-43页 |
| 4.4.2 两组高雷诺数(1.6×10~4和2.4×10~4)受控射流的扩散现象 | 第43-45页 |
| 4.4.3 同一雷诺数下(1.6×10~4)不同微射流C_m受控射流的扩散现象 | 第45-47页 |
| 4.5 本章小节 | 第47-48页 |
| 结论 | 第48-50页 |
| 参考文献 | 第50-55页 |
| 致谢 | 第55页 |
