| 摘要 | 第4-5页 |
| Abstract | 第5-6页 |
| 目录 | 第7-9页 |
| 第1章 绪论 | 第9-27页 |
| 1.1 表面科学 | 第9页 |
| 1.2 真空技术简介 | 第9-12页 |
| 1.3 表面/界面分析方法 | 第12-13页 |
| 1.4 光电子能谱技术 | 第13-20页 |
| 1.4.1 光电子能谱原理 | 第13-16页 |
| 1.4.2 角分辨光电子能谱原理 | 第16-17页 |
| 1.4.3 X射线光电子能谱(XPS) | 第17-19页 |
| 1.4.4 紫外光电子能谱(UPS) | 第19-20页 |
| 1.5 其他表面分析手段 | 第20-23页 |
| 1.5.1 低能电子衍射(LEED) | 第20-21页 |
| 1.5.2 扫描隧道显微镜(STM) | 第21-22页 |
| 1.5.3 原子力显微镜(AFM) | 第22-23页 |
| 1.6 真空镀膜技术简介 | 第23-24页 |
| 1.6.1 薄膜制备的物理方法 | 第23-24页 |
| 1.6.2 薄膜制备的化学方法 | 第24页 |
| 1.7 中南大学双超所光电子能谱系统简介 | 第24-27页 |
| 1.7.1 实验系统简介 | 第24-25页 |
| 1.7.2 系统性能介绍 | 第25-27页 |
| 第2章 二硫化钼的角分辨光电子能谱研究 | 第27-40页 |
| 2.1 引言 | 第27-31页 |
| 2.1.1 二硫化钼晶体结构 | 第27-28页 |
| 2.1.2 单层二硫化钼的制备 | 第28-29页 |
| 2.1.3 单层二硫化钼的光电特性以及应用 | 第29页 |
| 2.1.4 二硫化钼的电子结构研究 | 第29-31页 |
| 2.1.5 二硫化钼的异质结结构研究 | 第31页 |
| 2.2 研究内容 | 第31-32页 |
| 2.3 实验方法 | 第32-33页 |
| 2.3.1 样品固定以及清洁表面获得 | 第32-33页 |
| 2.3.2 二硫化钼洁净表面分析 | 第33页 |
| 2.4 表面结构研究 | 第33-34页 |
| 2.5 角分辨光电子能谱研究 | 第34-39页 |
| 2.6 本章小结 | 第39-40页 |
| 第3章 酞菁铜与二硫化钼界面电子结构研究 | 第40-50页 |
| 3.1 引言 | 第40页 |
| 3.2 实验方法 | 第40-41页 |
| 3.3 实验结果及讨论 | 第41-48页 |
| 3.3.1 低能电子衍射(LEED)实验结果与讨论 | 第41-43页 |
| 3.3.2 原子力显微镜(AFM)测试结果与讨论 | 第43-44页 |
| 3.3.3 UPS测试结果与分析 | 第44-47页 |
| 3.3.4 XPS测试结果与讨论 | 第47-48页 |
| 3.4 能级排列 | 第48-49页 |
| 3.5 本章小结 | 第49-50页 |
| 第4章 总结与展望 | 第50-52页 |
| 4.1 总结 | 第50-51页 |
| 4.2 展望 | 第51-52页 |
| 参考文献 | 第52-57页 |
| 攻读学位期间主要的研究成果 | 第57-58页 |
| 致谢 | 第58页 |