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利用UHV-STM对生长在Si(5 5 12)-2×1表面上铟原子链周期性断点的研究

摘要第6-7页
Abstract第7页
第一章 引言第17-28页
    1.1 研究背景第17-18页
    1.2 Si表面的相关研究第18-25页
    1.3 失配位错的基本理论第25-26页
    1.4 研究内容及意义第26-28页
第二章 扫描隧道显微镜(STM)原理与实验方法第28-34页
    2.1 STM的成像原理第28-32页
    2.2 实验方法第32-34页
第三章 铟原子在Si(5 5 12)表面上的吸附第34-56页
    3.1 铟吸附在Si表面的相关研究第34-35页
    3.2 铟在Si(5 5 12)表面上的三种吸附方式第35-49页
        3.2.1 顶层吸附第35-36页
        3.2.2 表面原子混合第36-40页
        3.2.3 表面原子替换及周期性断点的产生第40-49页
    3.3 结构模型的提出与计算参数第49-56页
        3.3.1 结构模型的提出第49-55页
        3.3.2 计算参数第55-56页
第四章 结论第56-58页
参考文献第58-64页
致谢第64-66页
攻读硕士学位期间发表论文目录第66-67页

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