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LaAlO3/GaAs异质结界面电学性能研究

摘要第4-5页
Abstract第5页
第1章 绪论第8-20页
    1.1 异质结相关知识简介第8-11页
        1.1.1 异质结简介第8页
        1.1.2 异质结的形成原理及能带图第8-10页
        1.1.3 异质结的发展及其应用第10页
        1.1.4 异质结薄膜制备工艺第10-11页
    1.2 钙钛矿氧化物及STO、LAO简介第11-13页
        1.2.1 钙钛矿氧化物晶体结构第11-12页
        1.2.2 钙钛矿氧化物的特性第12页
        1.2.3 LAO与STO关系介绍第12页
        1.2.4 钙钛矿氧化物异质结界面二维导电特性与氧空位第12-13页
    1.3 砷化镓晶格结构及特性简介第13-15页
        1.3.1 砷化镓的晶格结构第13-14页
        1.3.2 砷化镓的性质第14-15页
    1.4 STO/GaAs与LAO/GaAs的对比研究第15-18页
        1.4.1 STO/GaAs异质界面研究历程第15-17页
        1.4.2 根据STO/GaAs引入对LAO/GaAS的研究第17-18页
    1.5 论文选题思路及主要内容第18-20页
第2章 LAO/GaAs样品的制备,表征及测试方法第20-26页
    2.1 脉冲激光沉积PLD第20-22页
        2.1.1 PLD技术介绍第20页
        2.1.2 PLD工作原理第20-22页
    2.2 原子力显微镜AFM第22页
    2.3 X射线衍射(XRD)第22-23页
    2.4 样品电学性能测试设备第23-25页
        2.4.1 多功能物性测量系统(PPMS-14H)第23-24页
        2.4.2 Keithley系列仪器第24-25页
    2.5 本章小结第25-26页
第3章 LAO/GaAs的表征及电学性能测试结果分析第26-40页
    3.1 LAO/GaAs的制备参数及注意事项第26-28页
    3.2 LAO/GaAs的AFM表征结果第28页
    3.3 LAO/GaAs的XRD测试结果第28-30页
    3.4 LAO/GaAs样品的电学性能测试结果分析第30-38页
        3.4.1 范德堡法测量霍尔效应第30-32页
        3.4.2 LAO/GaAs样品的变温霍尔测试分析第32-38页
    3.5 本章小结第38-40页
第4章 LAO/GaAs界面的第一性原理计算第40-46页
    4.1 第一性原理计算的基本理论第40-41页
    4.2 VASP软件程序第41-42页
    4.3 LAO/GaAs异质结界面处的晶格结构第42页
    4.4 LAO/GaAs异质结界面处的态密度分析第42-44页
    4.5 本章小结第44-46页
第5章 全文总结第46-47页
致谢第47-48页
参考文献第48-53页
附录1 攻读硕士学位期间发表的论文第53页

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