| 摘要 | 第4-6页 |
| abstract | 第6-7页 |
| 第1章 绪论 | 第12-34页 |
| 1.1 传统全息技术 | 第12-15页 |
| 1.1.1 干涉记录 | 第13-14页 |
| 1.1.2 衍射再现 | 第14-15页 |
| 1.2 数字全息技术 | 第15-16页 |
| 1.3 计算全息技术 | 第16-17页 |
| 1.4 超表面全息技术 | 第17-29页 |
| 1.4.1 相位全息 | 第19-24页 |
| 1.4.2 振幅全息 | 第24-26页 |
| 1.4.3 相位、振幅同时调控全息 | 第26-27页 |
| 1.4.4 介质型全息图 | 第27-28页 |
| 1.4.5 基于全息原理的其他应用 | 第28-29页 |
| 1.5 本研究领域存在的关键科学问题及研究思路 | 第29-30页 |
| 1.6 本论文的主要内容及章节安排 | 第30-34页 |
| 第2章 超表面全息的基本理论与加工表征技术 | 第34-54页 |
| 2.1 标量衍射理论 | 第34-39页 |
| 2.1.1 菲涅尔衍射 | 第37-38页 |
| 2.1.2 夫琅和费衍射 | 第38-39页 |
| 2.2 矢量衍射理论 | 第39-41页 |
| 2.3 计算全息设计方法 | 第41-46页 |
| 2.3.1 GS算法 | 第41-44页 |
| 2.3.2 点源法 | 第44-46页 |
| 2.4 计算全息编码方法 | 第46-50页 |
| 2.4.1 空间光调制器(SLM)编码 | 第46-47页 |
| 2.4.2 迂回相位编码 | 第47-48页 |
| 2.4.3 几何相位(PB相位)编码 | 第48-50页 |
| 2.5 数值模拟方法 | 第50-51页 |
| 2.6 超表面样品加工及表征 | 第51-52页 |
| 2.7 本章小结 | 第52-54页 |
| 第3章 宽带纳米孔阵列超表面全息技术 | 第54-66页 |
| 3.1 研究意义 | 第54-55页 |
| 3.2 单元结构光学性能 | 第55-58页 |
| 3.3 样品的设计及加工 | 第58-60页 |
| 3.4 宽带全息成像结果 | 第60-61页 |
| 3.5 加工容差分析 | 第61-64页 |
| 3.6 本章小结 | 第64-66页 |
| 第4章 离轴照明纳米孔阵列超表面全息技术研究 | 第66-92页 |
| 4.1 单波长多离轴方向入射提升全息图可用信息容量 | 第67-77页 |
| 4.2 离轴彩色超表面全息技术研究 | 第77-83页 |
| 4.3 360度视场离轴彩色全息 | 第83-91页 |
| 4.4 本章小结 | 第91-92页 |
| 第5章 光的偏振态在超表面全息技术中的应用研究 | 第92-110页 |
| 5.1 偏振态复用全息技术 | 第92-99页 |
| 5.2 偏振无关全息技术 | 第99-107页 |
| 5.3 本章小结 | 第107-110页 |
| 第6章 结束语 | 第110-114页 |
| 6.1 论文的主要创新点 | 第110-112页 |
| 6.2 未来工作展望 | 第112-114页 |
| 参考文献 | 第114-126页 |
| 致谢 | 第126-128页 |
| 作者简历及攻读学位期间发表的学术论文与研究成果 | 第128-129页 |