| 摘要 | 第4-6页 |
| Abstract | 第6-7页 |
| 目录 | 第8-10页 |
| 第1章 绪论 | 第10-21页 |
| 1.1 课题研究背景及意义 | 第10-11页 |
| 1.2 极紫外光刻技术的发展 | 第11-13页 |
| 1.3 极紫外光刻光源的发展 | 第13-15页 |
| 1.3.1 激光等离子体技术的发展 | 第13-14页 |
| 1.3.2 放电等离子体技术的发展 | 第14-15页 |
| 1.4 毛细管放电EUV光刻技术 | 第15-18页 |
| 1.5 预-主脉冲联合放电技术发展 | 第18-19页 |
| 1.6 论文研究内容 | 第19-21页 |
| 第2章 实验装置介绍与放电等离子体基本理论 | 第21-34页 |
| 引言 | 第21页 |
| 2.1 极紫外光刻光源装置介绍 | 第21-27页 |
| 2.1.1 电源系统 | 第22-23页 |
| 2.1.2 控制系统 | 第23-24页 |
| 2.1.3 放电系统 | 第24-25页 |
| 2.1.4 探测系统 | 第25-27页 |
| 2.2 Xe等离子体极紫外辐射基本理论 | 第27-33页 |
| 2.2.1 Xe XI离子谱线跃迁能级 | 第27页 |
| 2.2.2 毛细管放电Z箍缩效应 | 第27-28页 |
| 2.2.3 雪耙模型理论 | 第28-29页 |
| 2.2.4 等离子体Z箍缩过程的理论研究 | 第29-32页 |
| 2.2.5 电子温度对等离子体分布影响的理论研究 | 第32-33页 |
| 2.3 本章小结 | 第33-34页 |
| 第3章 Xe等离子体极紫外辐射光谱实验研究 | 第34-48页 |
| 引言 | 第34页 |
| 3.1 Xe介质极紫外辐射光谱测量与分析 | 第34-36页 |
| 3.2 预主脉冲联合放电对Xe介质谱线的影响研究 | 第36-42页 |
| 3.2.1 Xe气流量对辐射谱线强度的影响研究 | 第36-40页 |
| 3.2.2 主脉冲电流幅值对辐射谱线强度的影响研究 | 第40-42页 |
| 3.3 预脉冲对Xe介质击穿特性与辐射谱线的影响研究 | 第42-47页 |
| 3.3.1 预脉冲对Xe介质击穿特性的影响研究 | 第42-46页 |
| 3.3.2 预脉冲对Xe介质辐射谱线的影响研究 | 第46-47页 |
| 3.4 本章小结 | 第47-48页 |
| 第4章 Xe等离子体 13.5nm辐射时间特性研究 | 第48-58页 |
| 引言 | 第48页 |
| 4.1 Xe介质极紫外辐射时间特性分析 | 第48-49页 |
| 4.2 主脉冲电流幅值对 13.5nm时间特性的影响研究 | 第49-54页 |
| 4.3 Xe气流量对 13.5nm时间特性的影响研究 | 第54-57页 |
| 4.4 本章小结 | 第57-58页 |
| 结论 | 第58-60页 |
| 参考文献 | 第60-66页 |
| 致谢 | 第66页 |
