| 摘要 | 第4-5页 |
| ABSTRACT | 第5-6页 |
| 前言 | 第11-13页 |
| 第1章 文献综述 | 第13-25页 |
| 1.1 SiCl_4 的产生及处理 | 第13-15页 |
| 1.1.1 SiCl_4 的产生 | 第13页 |
| 1.1.2 SiCl_4 处理生产二氧化硅 | 第13-15页 |
| 1.1.2.1 气相法制备SiO_2 | 第13-14页 |
| 1.1.2.2 沉淀法制备SiO_2 | 第14-15页 |
| 1.1.3 SiCl_4 氢化制备硅烷类产品 | 第15页 |
| 1.1.3.1 生产SiHCl_3 | 第15页 |
| 1.1.3.2 硅烷类产品 | 第15页 |
| 1.2 SiCl_4 氢化工艺 | 第15-16页 |
| 1.3 SiCl_4 氢化技术 | 第16-19页 |
| 1.3.1 热氢化技术 | 第16-17页 |
| 1.3.2 冷氢化技术 | 第17-18页 |
| 1.3.3 等离子体氢化技术 | 第18-19页 |
| 1.3.4 SiCl_4 氢化技术的对比 | 第19页 |
| 1.4 冷氢化技术原理 | 第19-20页 |
| 1.4.1 冷氢化技术分类 | 第19-20页 |
| 1.4.1.1 高压低温冷氢化 | 第19页 |
| 1.4.1.2 氯氢化 | 第19-20页 |
| 1.4.2 冷氢化工艺分析 | 第20页 |
| 1.4.2.1 冷氢化工艺面临的问题 | 第20页 |
| 1.4.2.2 冷氢化工艺电耗 | 第20页 |
| 1.5 冷氢化工艺所用的催化剂 | 第20-23页 |
| 1.5.1 铜基催化剂 | 第21页 |
| 1.5.2 铁基催化剂 | 第21页 |
| 1.5.3 镍基催化剂 | 第21-22页 |
| 1.5.4 钴、钼基催化剂 | 第22页 |
| 1.5.5 第II主族催化剂 | 第22-23页 |
| 1.6 本文研究目的及意义 | 第23-25页 |
| 第2章 催化剂的制备及检测 | 第25-45页 |
| 2.1 铜基催化剂的制备与检测 | 第25-33页 |
| 2.1.1 主要原料 | 第25页 |
| 2.1.2 主要仪器设备 | 第25-26页 |
| 2.1.3 催化剂的制备 | 第26-27页 |
| 2.1.4 催化剂评价方法 | 第27-28页 |
| 2.1.5 催化剂的表征 | 第28-29页 |
| 2.1.6 催化剂的表征结果分析 | 第29-33页 |
| 2.1.6.1 X-射线粉末衍射（XRD）分析 | 第29-30页 |
| 2.1.6.2 比表面积测定（BET）分析 | 第30-32页 |
| 2.1.6.3 扫描电镜（SEM）分析 | 第32-33页 |
| 2.2 镍基催化剂的制备与检测 | 第33-36页 |
| 2.2.1 主要原料 | 第33-34页 |
| 2.2.2 主要仪器设备 | 第34页 |
| 2.2.3 催化剂的制备 | 第34页 |
| 2.2.4 催化剂的活性评价 | 第34-35页 |
| 2.2.5 催化剂的表征及结果分析 | 第35-36页 |
| 2.3 铁基催化剂的制备与检测 | 第36-39页 |
| 2.3.1 主要原料 | 第36页 |
| 2.3.2 主要仪器设备 | 第36-37页 |
| 2.3.3 催化剂的制备 | 第37页 |
| 2.3.4 催化剂的表征 | 第37-38页 |
| 2.3.4.1 热重分析 | 第37页 |
| 2.3.4.2 孔径分析 | 第37-38页 |
| 2.3.5 催化剂的活性评价 | 第38-39页 |
| 2.4 钴、钼基催化剂的制备 | 第39-44页 |
| 2.4.1 主要原料 | 第39页 |
| 2.4.2 主要仪器设备 | 第39-40页 |
| 2.4.3 催化剂的制备 | 第40页 |
| 2.4.3.1 载体活性炭的处理 | 第40页 |
| 2.4.3.2 负载型Mo/C、Co/C、Co-Mo/C催化剂的制备 | 第40页 |
| 2.4.4 催化剂活性的评价 | 第40-41页 |
| 2.4.5 催化剂的活性结果分析 | 第41-44页 |
| 2.4.5.1 反应温度对催化活性的影响 | 第41-42页 |
| 2.4.5.2 原料比H2/SiCl_4 对SiCl_4 转化率的影响 | 第42-43页 |
| 2.4.5.3 催化剂中负载量对活性的影响 | 第43-44页 |
| 2.5 小结 | 第44-45页 |
| 第3章 催化剂的应用结果与讨论 | 第45-65页 |
| 3.1 研究目的和研究方向 | 第45页 |
| 3.1.1 研究目的 | 第45页 |
| 3.1.2 研究方向 | 第45页 |
| 3.2 SiCl_4 氢化反应机理推测 | 第45-48页 |
| 3.3 SiCl_4 氢化反应条件的确定 | 第48-54页 |
| 3.3.1 实验装置 | 第48-49页 |
| 3.3.2 实验药品 | 第49-50页 |
| 3.3.3 实验仪器及设备 | 第50页 |
| 3.3.4 反应产物的分析方法 | 第50-51页 |
| 3.3.5 SiCl_4 氢化反应中工艺参数的影响和分析 | 第51-54页 |
| 3.3.5.1 SiCl_4 氢化反应中反应温度的影响 | 第51-52页 |
| 3.3.5.2 SiCl_4 氢化反应中反应压力和H2/SiCl_4 进料比的影响 | 第52-54页 |
| 3.4 SiCl_4 氢化反应中催化剂的影响 | 第54-56页 |
| 3.4.1 实验内容 | 第54-55页 |
| 3.4.2 催化剂的对比 | 第55页 |
| 3.4.3 实验结果分析 | 第55-56页 |
| 3.5 SiCl_4 催化氢化反应的大试研究 | 第56-63页 |
| 3.5.1 SiCl_4 氢化工艺流程 | 第56-59页 |
| 3.5.2 SiCl_4 氢化工艺的主要设备 | 第59页 |
| 3.5.3 SiCl_4 氢化工艺操作 | 第59-60页 |
| 3.5.3.1 开车前准备 | 第59页 |
| 3.5.3.2 开车 | 第59-60页 |
| 3.5.3.3 系统运行 | 第60页 |
| 3.5.4 取样结果 | 第60-63页 |
| 3.5.5 结果分析 | 第63页 |
| 3.6 小结 | 第63-65页 |
| 第4章 结论 | 第65-67页 |
| 参考文献 | 第67-71页 |
| 致谢 | 第71-72页 |
