| 摘要 | 第5-6页 |
| ABSTRACT | 第6页 |
| 第一章 绪论 | 第10-25页 |
| 1.1 引言 | 第10页 |
| 1.2 氢气传感器的简介 | 第10-16页 |
| 1.2.1 氢气传感器的分类 | 第11-16页 |
| 1.3 阳极氧化铝模板法制备纳米材料 | 第16-23页 |
| 1.3.1 纳米材料的优势 | 第16页 |
| 1.3.2 阳极氧化铝模板的简介 | 第16-18页 |
| 1.3.3 阳极氧化铝的形成理论 | 第18-20页 |
| 1.3.4 阳极氧化铝模板法制造纳米材料 | 第20-21页 |
| 1.3.5 阳极氧化铝模板法制备快速响应的钯基氢气传感器 | 第21-23页 |
| 1.4 本论文的研究目的和范围 | 第23-25页 |
| 第二章 阳极氧化铝模板的制备 | 第25-34页 |
| 2.1 引言 | 第25-28页 |
| 2.1.1 二步阳极氧化法 | 第26-27页 |
| 2.1.2 材料分析表征技术简介 | 第27-28页 |
| 2.2 实验试剂药品及仪器 | 第28-29页 |
| 2.3 实验过程 | 第29-30页 |
| 2.4 实验结果与分析 | 第30-33页 |
| 2.4.1 阳极氧化铝模板的SEM分析 | 第30-32页 |
| 2.4.2 阳极氧化铝模板的XRD分析 | 第32-33页 |
| 2.5 本章小节 | 第33-34页 |
| 第三章 多孔钯薄膜电阻式氢气传感器 | 第34-46页 |
| 3.1 引言 | 第34-35页 |
| 3.1.1 薄膜技术的简介 | 第34页 |
| 3.1.2 多孔阳极氧化铝模板法制备多孔钯薄膜 | 第34-35页 |
| 3.2 实验材料及仪器 | 第35页 |
| 3.3 实验过程 | 第35-39页 |
| 3.3.1 氢气传感器的制备流程 | 第35-36页 |
| 3.3.2 磁控溅射钯薄膜的操作过程 | 第36-38页 |
| 3.3.3 热蒸发Al电极的操作过程 | 第38-39页 |
| 3.4 氢气传感器器件测试 | 第39-40页 |
| 3.4.1 测试材料及仪器 | 第39页 |
| 3.4.2 氢气传感器测试系统 | 第39-40页 |
| 3.5 实验结果与分析 | 第40-45页 |
| 3.5.1 标定溅射速率 | 第40-41页 |
| 3.5.2 多孔钯薄膜的SEM分析 | 第41-42页 |
| 3.5.3 不同氢气浓度下氢气传感器的性能测试 | 第42-44页 |
| 3.5.4 传感器的重复性测试 | 第44页 |
| 3.5.5 铝衬底上致密钯薄膜氢气传感器的性能 | 第44-45页 |
| 3.6 本章小结 | 第45-46页 |
| 第四章 钯薄膜制备工艺对氢气传感器性能的影响 | 第46-55页 |
| 4.1 引言 | 第46页 |
| 4.2 实验材料及仪器 | 第46-47页 |
| 4.2.1 磁控溅射系统 | 第47页 |
| 4.3 实验过程 | 第47-48页 |
| 4.4 实验结果及分析 | 第48-54页 |
| 4.4.1 溅射速率对氢气传感器性能的影响 | 第48-49页 |
| 4.4.2 衬底温度对氢气传感器性能的影响 | 第49-50页 |
| 4.4.3 退火温度对氢气传感器性能的影响 | 第50-54页 |
| 4.5 本章小结 | 第54-55页 |
| 第五章 阳极氧化铝模板扩孔对氢气传感器性能的影响 | 第55-63页 |
| 5.1 引言 | 第55-57页 |
| 5.1.1 扩大AAO模板孔径的意义 | 第55-57页 |
| 5.2 实验试剂药品及仪器 | 第57页 |
| 5.3 试验过程 | 第57页 |
| 5.4 实验结果及分析 | 第57-62页 |
| 5.4.1 磷酸刻蚀后AAO孔径的变化 | 第57-58页 |
| 5.4.2 AAO孔径变化对氢气传感器性能的影响 | 第58-61页 |
| 5.4.3 AAO孔径变化对钯薄膜电阻的影响 | 第61-62页 |
| 5.5 本章小结 | 第62-63页 |
| 第六章 全文总结和展望 | 第63-65页 |
| 6.1 基于AAO模板的钯基电阻式氢气传感器研究总结 | 第63-64页 |
| 6.2 氢气传感器的研究展望 | 第64-65页 |
| 致谢 | 第65-66页 |
| 参考文献 | 第66-71页 |
| 攻硕期间取得的研究成果 | 第71-72页 |