| 摘要 | 第4-5页 |
| ABSTRACT | 第5页 |
| 1 绪论 | 第9-20页 |
| 1.1 引言 | 第9页 |
| 1.2 透明导电薄膜概述 | 第9-12页 |
| 1.3 SnO_2基薄膜研究进展 | 第12-15页 |
| 1.4 FTO薄膜光电机理 | 第15-17页 |
| 1.4.1 SnO_2晶体结构 | 第15页 |
| 1.4.2 FTO薄膜导电机理 | 第15-16页 |
| 1.4.3 FTO薄膜可见光高透过机理 | 第16页 |
| 1.4.4 FTO薄膜低辐射节能原理 | 第16-17页 |
| 1.5 FTO薄膜制备方法 | 第17-19页 |
| 1.5.1 溶胶凝胶法(Sol-Gel) | 第17页 |
| 1.5.2 磁控溅射法 | 第17页 |
| 1.5.3 化学气相沉积法 | 第17-18页 |
| 1.5.4 喷雾热解法 | 第18-19页 |
| 1.6 本文研究内容 | 第19-20页 |
| 2 实验与表征 | 第20-26页 |
| 2.1 实验装置 | 第20-21页 |
| 2.2 原料体系确定 | 第21-22页 |
| 2.3 样品制备过程 | 第22-24页 |
| 2.3.1 镀膜玻璃 | 第22-23页 |
| 2.3.2 薄膜制备工艺 | 第23-24页 |
| 2.4 表征方法及原理 | 第24-26页 |
| 2.4.1 X射线衍射仪(XRD) | 第24页 |
| 2.4.2 扫描电镜(SEM) | 第24页 |
| 2.4.3 方块电阻测试 | 第24页 |
| 2.4.4 光谱测试 | 第24-25页 |
| 2.4.5 雾度仪 | 第25-26页 |
| 3 高透过FTO薄膜的制备与性能研究 | 第26-36页 |
| 3.1 研究背景与意义 | 第26页 |
| 3.2 实验工艺 | 第26页 |
| 3.3 F掺杂量对DMTC前驱体制备薄膜的影响 | 第26-29页 |
| 3.4 H_2O用量对DMTC前驱体制备薄膜的影响 | 第29-31页 |
| 3.5 原料总流量对FTO薄膜性能的影响 | 第31-35页 |
| 3.6 本章小结 | 第35-36页 |
| 4 高雾度FTO薄膜的制备与研究 | 第36-46页 |
| 4.1 引言 | 第36页 |
| 4.2 不同水量下薄膜光、电和雾度 | 第36-41页 |
| 4.2.1 水对MBTC镀膜影响机理 | 第36-38页 |
| 4.2.2 实验结果分析 | 第38-41页 |
| 4.3 薄膜晶体结构对雾度的影响 | 第41页 |
| 4.4 薄膜表面形貌对雾度的影响 | 第41-42页 |
| 4.5 表面晶粒尺寸对薄膜雾度的影响 | 第42-44页 |
| 4.6 薄膜厚度对雾度的影响 | 第44-45页 |
| 4.7 本章小结 | 第45-46页 |
| 5 遮阳低辐射FTO/ATO复合薄膜的研究 | 第46-53页 |
| 5.1 引言 | 第46页 |
| 5.2 遮阳系数计算方法 | 第46-47页 |
| 5.3 FTO/ATO复合薄膜的研究 | 第47-51页 |
| 5.3.1 实验参数 | 第47页 |
| 5.3.2 FTO/ATO复合薄膜的形貌和晶体结构 | 第47-49页 |
| 5.3.3 不同厚度FTO对FTO/ATO复合薄膜光电性质的影响 | 第49-51页 |
| 5.4 不同厚度FTO对FTO/ATO复合薄膜辐射率和遮阳系数的影响 | 第51-52页 |
| 5.5 本章结论 | 第52-53页 |
| 6 总结 | 第53-55页 |
| 参考文献 | 第55-59页 |
| 硕士期间发表的论文、专利和参加的项目 | 第59-60页 |
| 致谢 | 第60页 |
