| 摘要 | 第3-5页 |
| Abstract | 第5-6页 |
| 第一章 绪论 | 第9-16页 |
| 1.1 研究背景 | 第9-15页 |
| 1.1.1 微弧氧化膜层的生长机理 | 第10-12页 |
| 1.1.2 微弧氧化膜层的微观形貌 | 第12页 |
| 1.1.3 微弧氧化处理的工艺参数 | 第12-14页 |
| 1.1.4 微弧氧化处理对工件的改善效果 | 第14页 |
| 1.1.5 微弧氧化的主要应用 | 第14-15页 |
| 1.2 研究内容 | 第15-16页 |
| 第二章 微弧氧化工艺与实验流程 | 第16-23页 |
| 2.1 本章引论 | 第16页 |
| 2.2 实验材料与仪器 | 第16-21页 |
| 2.2.1 实验材料与仪器 | 第16-17页 |
| 2.2.2 实验仪器 | 第17-21页 |
| 2.3 微弧氧化实验方案的设计 | 第21-23页 |
| 2.3.1 微弧氧化工艺参数的选定 | 第21页 |
| 2.3.2 微弧氧化工艺流程 | 第21-23页 |
| 第三章 碳化硅的引入对纯钛微弧氧化层的影响 | 第23-31页 |
| 3.1 表面形貌 | 第23-28页 |
| 3.1.1 电解液成分对微弧氧化层表面宏观及微观形貌的影响 | 第23-26页 |
| 3.1.2 各项电参数对微弧氧化层表面形貌形貌的影响 | 第26-28页 |
| 3.2 通过XRD分析碳化硅引入对膜层成分的影响 | 第28-29页 |
| 3.3 碳化硅的引入对纯钛微弧氧化膜层表面微观硬度的影响 | 第29-30页 |
| 3.4 本章总结 | 第30-31页 |
| 第四章 碳化硅引入对Ti-6Al-4V钛合金微弧氧化膜的影响 | 第31-38页 |
| 4.1 表面形貌 | 第31-32页 |
| 4.2 物相分析 | 第32-33页 |
| 4.3 摩擦磨损分析 | 第33-37页 |
| 4.4 本章总结 | 第37-38页 |
| 第五章 结论与展望 | 第38-40页 |
| 5.1 结论 | 第38页 |
| 5.2 展望 | 第38-40页 |
| 参考文献 | 第40-43页 |
| 在学期间的研究成果 | 第43-44页 |
| 致谢 | 第44页 |
