| 摘要 | 第3-5页 |
| Abstract | 第5-6页 |
| 1 绪论 | 第9-15页 |
| 1.1 课题研究的背景及意义 | 第9-10页 |
| 1.2 纳米材料研究现状 | 第10页 |
| 1.3 固体表面/界面理论简介 | 第10-11页 |
| 1.4 基于纳米薄膜实验研究现状 | 第11-12页 |
| 1.4.1 纳米多孔薄膜的制备 | 第11-12页 |
| 1.4.2 纳米多孔金属薄膜力学性能 | 第12页 |
| 1.5 研究的主要内容 | 第12-15页 |
| 2 纳米多孔铜膜的制备 | 第15-23页 |
| 2.1 前言 | 第15页 |
| 2.2 磁控溅射原理 | 第15-16页 |
| 2.3 实验条件 | 第16-17页 |
| 2.3.1 实验设备 | 第16页 |
| 2.3.2 靶材与基底 | 第16-17页 |
| 2.3.3 实验试剂、原材料和实验仪器 | 第17页 |
| 2.4 实验操作过程 | 第17-19页 |
| 2.4.1 磁控溅射镀膜 | 第17-18页 |
| 2.4.2 纳米多孔Cu膜制备 | 第18-19页 |
| 2.5 实验结果分析讨论 | 第19-21页 |
| 2.6 本章小结 | 第21-23页 |
| 3 纳米多孔铜膜的力学性能测量 | 第23-29页 |
| 3.1 前言 | 第23页 |
| 3.2 纳米多孔铜膜力学性能 | 第23-27页 |
| 3.2.1 同种状态下薄膜力学性能 | 第23-25页 |
| 3.2.2 不同状态下薄膜力学性能 | 第25-27页 |
| 3.3 本章小结 | 第27-29页 |
| 4 基于实验和量纲分析法的力学性能分析 | 第29-45页 |
| 4.1 前言 | 第29页 |
| 4.2 理论基础 | 第29-33页 |
| 4.2.1 量纲理论 | 第29-30页 |
| 4.2.2 纳米多孔铜膜/硅片基底压入问题量纲分析 | 第30-32页 |
| 4.2.3 幂硬化模型（薄膜本构模型） | 第32-33页 |
| 4.3 仿真模拟 | 第33-39页 |
| 4.3.1 ANSYS简介 | 第33-34页 |
| 4.3.2 有限元模型 | 第34-35页 |
| 4.3.3 有限元计算结果分析 | 第35-39页 |
| 4.4 无量纲函数确定 | 第39-42页 |
| 4.4.1 无量纲函数φ（σ_(yf)/E_s,n_f,E_f/E_s）的确定 | 第39-41页 |
| 4.4.2 无量纲函数γ（σ_(yf)/E_s,n_f,E_f/E_s）的确定 | 第41-42页 |
| 4.5 应力应变关系 | 第42-44页 |
| 4.6 本章小结 | 第44-45页 |
| 5.结论与展望 | 第45-47页 |
| 5.1 结论 | 第45页 |
| 5.2 展望 | 第45-47页 |
| 致谢 | 第47-49页 |
| 参考文献 | 第49-51页 |
