| 摘要 | 第4-6页 |
| ABSTRACT | 第6-8页 |
| 目录 | 第9-12页 |
| TABLE OF CONTENTS | 第12-16页 |
| 图目录 | 第16-18页 |
| 表目录 | 第18-20页 |
| 1 绪论 | 第20-35页 |
| 1.1 第一镜的需求分析 | 第20-25页 |
| 1.1.1 核能发展概述及ITER项目简介 | 第20-21页 |
| 1.1.2 托卡马克装置中的诊断系统 | 第21-23页 |
| 1.1.3 第一镜问题的提出 | 第23-25页 |
| 1.2 第一镜研究概况 | 第25-33页 |
| 1.2.1 中子和各种射线的辐照作用 | 第25-26页 |
| 1.2.2 电荷交换原子(CXA)所引起的溅射作用 | 第26-27页 |
| 1.2.3 杂质再沉积所造成的污染 | 第27-29页 |
| 1.2.4 第一镜的清洗 | 第29页 |
| 1.2.5 第一镜材料的选择条件 | 第29-33页 |
| 1.3 本论文的意义、目的及研究内容 | 第33-35页 |
| 2 非晶金属玻璃第一镜的成分设计及加工 | 第35-43页 |
| 2.1 块体非晶金属玻璃的成分设计 | 第35-40页 |
| 2.2 非晶合金熔炼实验设备 | 第40-41页 |
| 2.3 非晶合金制备工艺及方法 | 第41-42页 |
| 2.4 小结 | 第42-43页 |
| 3 氢等离子体溅射非晶合金实验结果与讨论 | 第43-54页 |
| 3.1 氢等离子体溅射块体非晶合金实验 | 第43-44页 |
| 3.2 氢等离子体溅射后样件特性表征方法 | 第44-48页 |
| 3.2.1 椭偏仪工作原理简介 | 第45-46页 |
| 3.2.2 原子力显微镜 | 第46-47页 |
| 3.2.3 X射线衍射仪 | 第47-48页 |
| 3.3 镜面反射率测试结果及分析 | 第48-51页 |
| 3.4 表面粗糙度测试结果及分析 | 第51-52页 |
| 3.5 块体金属玻璃晶相结构分析结果 | 第52-53页 |
| 3.6 小结 | 第53-54页 |
| 4 高电荷态He~(2+)离子束轰击非晶合金实验结果与讨论 | 第54-74页 |
| 4.1 高电荷态离子综合研究平台 | 第54-56页 |
| 4.2 高电荷态He~(2+)离子束轰击实验研究方法 | 第56-57页 |
| 4.3 高电荷态He~(2+)离子束轰击样件特性表征方法 | 第57页 |
| 4.4 第一镜样件镜面反射率测试结果分析 | 第57-59页 |
| 4.5 样件表面粗糙度测试结果分析(AFM) | 第59-61页 |
| 4.6 块体金属玻璃样件的XRD分析 | 第61-62页 |
| 4.7 块体金属玻璃样件的XPS成分分析 | 第62-69页 |
| 4.8 用于第一镜表面的金属玻璃薄膜 | 第69-73页 |
| 4.9 小结 | 第73-74页 |
| 5 氢等离子体溅射铝及其氧化物薄膜材料实验结果与讨论 | 第74-117页 |
| 5.1 薄膜制备方法 | 第74-77页 |
| 5.2 铝及其氧化物薄膜氢等离子体溅射研究内容 | 第77-79页 |
| 5.3 不锈钢基底Al薄膜溅射前后性能分析 | 第79-85页 |
| 5.3.1 不锈钢基底Al薄膜溅射前后反射率分析 | 第79-81页 |
| 5.3.2 不锈钢基底Al薄膜溅射前后表面形貌分析 | 第81-82页 |
| 5.3.3 不锈钢基底Al薄膜溅射前后XRD分析 | 第82页 |
| 5.3.4 不锈钢基底Al薄膜溅射前后XPS成分分析 | 第82-85页 |
| 5.4 不锈钢基底Al_2O_3/Al薄膜溅射前后性能分析 | 第85-94页 |
| 5.4.1 不锈钢基底Al_2O_3/Al薄膜溅射前后反射率分析 | 第85-87页 |
| 5.4.2 不锈钢基底Al_2O_3/Al薄膜溅射前后表面形貌分析 | 第87-89页 |
| 5.4.3 不锈钢基底Al_2O_3/Al薄膜溅射前后XRD分析 | 第89-90页 |
| 5.4.4 不锈钢基底Al_2O_3/Al薄膜溅射前后XPS成分分析 | 第90-94页 |
| 5.5 硅基底Al薄膜溅射前后性能分析 | 第94-99页 |
| 5.5.1 硅基底Al薄膜溅射前后反射率分析 | 第94页 |
| 5.5.2 硅基底Al薄膜溅射前后表面形貌分析 | 第94-95页 |
| 5.5.3 硅基底Al薄膜溅射前后XRD分析 | 第95-96页 |
| 5.5.4 硅基底Al薄膜溅射前后XPS成分分析 | 第96-99页 |
| 5.6 玻璃基底Al薄膜溅射前后性能分析 | 第99-104页 |
| 5.6.1 玻璃基底Al薄膜溅射前后反射率分析 | 第99页 |
| 5.6.2 玻璃基底Al薄膜溅射前后表面形貌分析 | 第99-101页 |
| 5.6.3 玻璃基底Al薄膜溅射前后XRD分析 | 第101-102页 |
| 5.6.4 玻璃基底Al薄膜溅射前后XPS成分分析 | 第102-104页 |
| 5.7 玻璃基底Al_2O_3/Al薄膜溅射前后性能分析 | 第104-111页 |
| 5.7.1 玻璃基底Al_2O_3/Al薄膜溅射前后反射率分析 | 第104-106页 |
| 5.7.2 玻璃基底Al_2O_3/Al薄膜溅射前后表面形貌分析 | 第106-107页 |
| 5.7.3 玻璃基底Al_2O_3/Al薄膜溅射前后XRD分析 | 第107页 |
| 5.7.4 玻璃基底Al_2O_3/Al薄膜溅射前后XPS成分分析 | 第107-111页 |
| 5.8 玻璃/Al/Al_2O_3样件溅射前后性能分析 | 第111-116页 |
| 5.8.1 溅射前后基底面反射率分析 | 第111-112页 |
| 5.8.2 溅射前后基底表面形貌分析 | 第112页 |
| 5.8.3 溅射前后基底表面XPS成分分析 | 第112-116页 |
| 5.9 小结 | 第116-117页 |
| 6 结论与展望 | 第117-120页 |
| 6.1 结论 | 第117-119页 |
| 6.2 创新点 | 第119页 |
| 6.3 展望 | 第119-120页 |
| 参考文献 | 第120-127页 |
| 攻读博士学位期间科研项目及科研成果 | 第127-128页 |
| 致谢 | 第128-129页 |
| 作者简介 | 第129页 |
