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AlGaN/GaN肖特基势垒二极管ATLAS仿真与实验研究

摘要第4-5页
Abstract第5-6页
第1章 绪论第9-17页
    1.1 GaN材料研究背景第9-11页
    1.2 GaN SBD研究现状第11-14页
    1.3 GaN SBD面临的问题第14-15页
    1.4 论文的组织架构第15页
    1.5 本章小结第15-17页
第2章 AlGaN/GaN SBD材料特性及工作原理第17-27页
    2.1 AlGaN/GaN SBD材料特性第17-21页
        2.1.1 AlGaN/GaN SBD材料生长第17-18页
        2.1.2 2-DEG的形成第18-21页
    2.2 AlGaN/GaN SBD工作原理第21-25页
        2.2.1 AlGaN/GaN SBD基本结构第21页
        2.2.2 金半接触理论第21-24页
        2.2.3 AlGaN/GaN SBD工作原理第24-25页
    2.3 本章小结第25-27页
第3章 AlGaN/GaN SBD器件场板终端技术仿真与优化第27-45页
    3.1 Silvaco-ATLAS仿真平台第27-28页
    3.2 AlGaN/GaN SBD基本特性仿真第28-35页
        3.2.1 器件模型搭建第28-30页
        3.2.2 Al组分对器件特性的影响第30-33页
        3.2.3 阴阳极间距对器件特性的影响第33-35页
    3.3 肖特基场板终端结构研究第35-39页
        3.3.1 场板对器件击穿特性的优化第35-38页
        3.3.2 场板长度对器件击穿特性的影响第38-39页
    3.4 场板结构下钝化层厚度对器件击穿特性的影响第39-43页
        3.4.1 钝化层厚度对单场板器件击穿特性的影响第39-40页
        3.4.2 钝化层厚度对双场板器件击穿特性的影响第40-43页
    3.5 本章小结第43-45页
第4章 圆环形AlGaN/GaN SBD制备及其热特性分析第45-59页
    4.1 AlGaN/GaN SBD制备第45-50页
        4.1.1 材料结构第45页
        4.1.2 器件版图设计第45-46页
        4.1.3 器件制备第46-50页
    4.2 AlGaN/GaN肖特基势垒二极管参数提取方法第50-52页
        4.2.1 I-V测试第50-51页
        4.2.2 C-V测试第51-52页
    4.3 AlGaN/GaN肖特基势垒二极管热特性分析第52-57页
        4.3.1 AlGaN/GaN SBD正向变温特性分析第52-55页
        4.3.2 AlGaN/GaN SBD变温漏电流及击穿电压分析第55-57页
    4.4 本章小结第57-59页
第5章 大电流AlGaN/GaN肖特基势垒二极管研究第59-67页
    5.1 器件结构设计及制备第59-61页
        5.1.1 器件版图设计第59-60页
        5.1.2 器件制备第60-61页
    5.2 插指器件电流-电压特性优化分析第61-65页
        5.2.1 欧姆电极加厚第61-62页
        5.2.2 引线键合第62页
        5.2.3 工作电流密度对比分析第62-64页
        5.2.4 不同插指数目的正向I-V特性分析第64-65页
    5.3 本章小结第65-67页
结论第67-69页
参考文献第69-73页
攻读硕士学位期间所发表的学术论文第73-75页
致谢第75页

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