| 摘要 | 第6-7页 |
| Abstract | 第7页 |
| 第一章 绪论 | 第11-27页 |
| 1.1 物质的磁性 | 第11-15页 |
| 1.1.1 引言 | 第11页 |
| 1.1.2 基本磁性参量 | 第11-12页 |
| 1.1.3 材料的磁化 | 第12-14页 |
| 1.1.4 磁各向异性 | 第14-15页 |
| 1.2 GMI效应简介 | 第15-24页 |
| 1.2.1 GMI效应的理论基础 | 第15-18页 |
| 1.2.2 GMI材料的研究进展 | 第18-21页 |
| 1.2.3 GMI传感器及其应用 | 第21-24页 |
| 1.3 本文的研究内容与意义 | 第24-27页 |
| 1.3.1 本文的研究内容 | 第24-25页 |
| 1.3.2 本文的研究意义 | 第25-27页 |
| 第二章 基于硅微通道板铁镍合金微米线阵列的制备 | 第27-40页 |
| 2.1 铁镍合金简介 | 第27-28页 |
| 2.2 电沉积法制备铁镍合金原理 | 第28-30页 |
| 2.3 铁镍合金微米线阵列的制备工艺 | 第30-39页 |
| 2.3.1 硅微通道板的制备 | 第30-33页 |
| 2.3.2 样品氧化 | 第33-34页 |
| 2.3.3 溅射 | 第34-35页 |
| 2.3.4 电沉积铜 | 第35-36页 |
| 2.3.5 电沉积铁镍合金 | 第36-39页 |
| 2.4 本章小结 | 第39-40页 |
| 第三章 铁镍合金微米线阵列的表征和巨磁阻抗效应研究 | 第40-51页 |
| 3.1 铁镍合金微米线阵列的基本结构和表征 | 第40-43页 |
| 3.1.1 SEM观察及形貌分析 | 第40-42页 |
| 3.1.2 XRD表征 | 第42-43页 |
| 3.2 铁镍合金微米线阵列的磁性测试 | 第43-45页 |
| 3.3 铁镍合金微米线阵列的GMI效应 | 第45-49页 |
| 3.3.1 样品GMI效应的测试原理 | 第45-46页 |
| 3.3.2 样品的GMI效应分析 | 第46-49页 |
| 3.4 本章小结 | 第49-51页 |
| 第四章 基于硅微通道板无电沉积Co基材料及其巨磁阻抗研究 | 第51-67页 |
| 4.1 基于硅微通道板的化学沉积方法简介 | 第51-53页 |
| 4.1.1 真空化学沉积法 | 第51-52页 |
| 4.1.2 液流沉积法 | 第52-53页 |
| 4.2 CoNiFe/Si-MCP的制备与表征 | 第53-57页 |
| 4.2.1 液流沉积CoNiFe | 第53-55页 |
| 4.2.2 CoNiFe/Si-MCP的结构和形貌 | 第55-57页 |
| 4.3 CoNiFe/Si-MCP的磁性和GMI特性 | 第57-62页 |
| 4.3.1 CoNiFe/Si-MCP的磁学性能 | 第57-59页 |
| 4.3.2 CoNiFe/Si-MCP的GMI特性 | 第59-62页 |
| 4.4 Cu/CoNiFe/Si-MCP复合结构的GMI效应 | 第62-65页 |
| 4.4.1 研究背景 | 第62页 |
| 4.4.2 Cu/CoNiFe/Si-MCP复合结构的制备及表征 | 第62-64页 |
| 4.4.3 Cu/CoNiFe/Si-MCP复合结构的磁性及GMI特性 | 第64-65页 |
| 4.5 本章总结 | 第65-67页 |
| 第五章 总结与展望 | 第67-69页 |
| 5.1 总结 | 第67页 |
| 5.2 展望 | 第67-69页 |
| 参考文献 | 第69-72页 |
| 攻读学位期间发表的学术论文及专利目录 | 第72-73页 |
| 致谢 | 第73页 |
