| 中文摘要 | 第1-13页 |
| Abstract | 第13-18页 |
| 符号说明 | 第18-19页 |
| 第一章 绪论 | 第19-51页 |
| ·透明导电氧化物薄膜的基本性质 | 第20-21页 |
| ·透明导电氧化物薄膜的种类和研究现状 | 第21-38页 |
| ·氧化锌薄膜及其掺杂体系 | 第21-29页 |
| ·三氧化二铟薄膜及其掺杂体系 | 第29-35页 |
| ·二氧化锡薄膜及其掺杂体系 | 第35-37页 |
| ·其它透明导电氧化物薄膜 | 第37-38页 |
| ·透明导电氧化物薄膜的应用 | 第38-40页 |
| ·透明导电氧化物薄膜的制备方法 | 第40-43页 |
| 参考文献 | 第43-51页 |
| 第二章 课题的选取,实验设备,样品的制备和测试方法 | 第51-68页 |
| ·课题的选取 | 第51-53页 |
| ·实验设备 | 第53-58页 |
| ·溅射原理 | 第53-56页 |
| ·MS350型高真空磁控溅射台 | 第56-58页 |
| ·样品的制备 | 第58-61页 |
| ·MoO_3的性质简介 | 第58-59页 |
| ·MZO靶的制备 | 第59-60页 |
| ·MZO薄膜的制备 | 第60-61页 |
| ·测试方法 | 第61-66页 |
| 参考文献 | 第66-68页 |
| 第三章 MZO薄膜的特性分析 | 第68-129页 |
| ·Mo含量对MZO薄膜性质的影响 | 第68-81页 |
| ·实验过程 | 第69页 |
| ·MZO薄膜化学性质 | 第69-74页 |
| ·Mo含量对薄膜结构性质的影响 | 第74-77页 |
| ·Mo含量对薄膜电学性质的影响 | 第77-78页 |
| ·Mo含量对薄膜光学性质的影响 | 第78-81页 |
| ·厚度对MZO薄膜性质的影响 | 第81-90页 |
| ·实验过程 | 第82-83页 |
| ·厚度对薄膜结构性质的影响 | 第83-87页 |
| ·厚度对薄膜电学性质的影响 | 第87-88页 |
| ·厚度对薄膜光学性质的影响 | 第88-90页 |
| ·溅射功率对MZO薄膜性质的影响 | 第90-96页 |
| ·实验过程 | 第91-92页 |
| ·溅射功率对结构性质的影响 | 第92-94页 |
| ·溅射功率对电学性质的影响 | 第94-95页 |
| ·溅射功率对光学性质的影响 | 第95-96页 |
| ·氩气压对MZO薄膜性质的影响 | 第96-106页 |
| ·实验过程 | 第97-98页 |
| ·氩气压对薄膜结构性质的影响 | 第98-102页 |
| ·氩气压对薄膜电学性质的影响 | 第102-103页 |
| ·氩气压对薄膜光学性质的影响 | 第103-106页 |
| ·衬底温度对MZO薄膜性质的影响 | 第106-114页 |
| ·实验过程 | 第107页 |
| ·衬底温度对薄膜结构性质的影响 | 第107-111页 |
| ·衬底温度对薄膜电学性质的影响 | 第111-112页 |
| ·衬底温度对薄膜光学性质的影响 | 第112-114页 |
| ·薄膜的纳米结构 | 第114-120页 |
| ·小结 | 第120-123页 |
| 参考文献 | 第123-129页 |
| 第四章 MZO薄膜在OLEDs中的应用 | 第129-139页 |
| ·有机发光二极管概述 | 第129-132页 |
| ·MZO薄膜有机发光二极管的制备与测量 | 第132-135页 |
| ·OLEDs的制备过程 | 第132-134页 |
| ·OLEDs的测量 | 第134-135页 |
| ·MZO薄膜有机发光二极管性能 | 第135-137页 |
| ·小结 | 第137-138页 |
| 参考文献 | 第138-139页 |
| 第五章 结论 | 第139-144页 |
| ·主要结果 | 第140-143页 |
| ·主要创新点 | 第143-144页 |
| 附图、表目录 | 第144-147页 |
| 致谢 | 第147-148页 |
| 攻读博士学位期间发表和待发表论文目录 | 第148-150页 |
| 学位论文评阅及答辩情况表 | 第150页 |