| 摘要 | 第1-5页 |
| Abstract | 第5-8页 |
| 第1章 绪论 | 第8-23页 |
| ·铁电材料 | 第8-9页 |
| ·铁电材料的发展历史和研究现状 | 第8页 |
| ·铁电材料的分类 | 第8-9页 |
| ·铁电薄膜 | 第9-13页 |
| ·铁电薄膜的发展历史 | 第10-11页 |
| ·铁电薄膜性能及应用 | 第11页 |
| ·铁电薄膜的制备与性能表征 | 第11-13页 |
| ·铁电存储器 | 第13-19页 |
| ·铁电存储器的原理与结构 | 第13-15页 |
| ·铁电存储器的发展情况 | 第15-17页 |
| ·铁电存储器的优势与不足 | 第17-19页 |
| ·选题背景与研究内容 | 第19-23页 |
| ·BNT 薄膜简介 | 第19-21页 |
| ·BFO 薄膜简介 | 第21页 |
| ·复合薄膜介绍 | 第21-23页 |
| 第2章 铁电薄膜的CSD 法制备与表征方法 | 第23-35页 |
| ·化学溶液沉积法(CSD) | 第23-24页 |
| ·实验条件 | 第24-27页 |
| ·实验药品 | 第24页 |
| ·衬底基片 | 第24页 |
| ·实验仪器与耗材 | 第24-26页 |
| ·实验环境 | 第26-27页 |
| ·实验流程 | 第27-30页 |
| ·BNT 薄膜的制备过程 | 第27-29页 |
| ·BFO 薄膜的制备过程 | 第29-30页 |
| ·复合薄膜的制备过程 | 第30页 |
| ·薄膜的测试与分析方法 | 第30-34页 |
| ·X 射线衍射分析(XRD) | 第30-31页 |
| ·扫描电子显微镜(SEM)与原子力显微镜(AFM) | 第31-32页 |
| ·电学性能分析 | 第32-34页 |
| ·小结 | 第34-35页 |
| 第3章 BNT 薄膜的性能分析 | 第35-45页 |
| ·退火温度与升温速率对BNT 薄膜的影响 | 第35-38页 |
| ·退火技术 | 第35页 |
| ·退火温度对BNT 薄膜铁电性的影响 | 第35-36页 |
| ·升温速率对BNT 薄膜的影响 | 第36-38页 |
| ·界面效应对BNT 薄膜的影响 | 第38-44页 |
| ·铁电薄膜的界面效应简介 | 第38-39页 |
| ·铁电薄膜的极化与薄膜厚度的关系 | 第39-41页 |
| ·后退火对薄膜的影响 | 第41-44页 |
| ·小结 | 第44-45页 |
| 第4章 BFO 薄膜的性能分析 | 第45-51页 |
| ·BFO 薄膜的结构分析 | 第45-46页 |
| ·掺杂对BFO 薄膜的影响 | 第46-48页 |
| ·退火气氛对BFO 薄膜的影响 | 第48-50页 |
| ·小结 | 第50-51页 |
| 第5章 BNT/BLFMO 复合薄膜的性能分析 | 第51-56页 |
| ·复合薄膜的结构分析 | 第51-52页 |
| ·复合薄膜的电学性能 | 第52-54页 |
| ·小结 | 第54-56页 |
| 第6章 工作总结与展望 | 第56-58页 |
| ·论文总结 | 第56-57页 |
| ·工作展望 | 第57-58页 |
| 参考文献 | 第58-63页 |
| 致谢 | 第63-64页 |
| 攻读硕士学位期间发表的论文和专利 | 第64页 |