触摸屏技术在镁合金微弧氧化过程控制中的应用
| 摘要 | 第1-8页 |
| Abstract | 第8-10页 |
| 插图索引 | 第10-12页 |
| 附表索引 | 第12-13页 |
| 第1章 绪论 | 第13-24页 |
| ·课题背景 | 第13-15页 |
| ·微弧氧化微区放电机理 | 第13页 |
| ·基于微区放电机理的微弧氧化阶段分析 | 第13-14页 |
| ·微弧氧化电源及输出波形 | 第14-15页 |
| ·微弧氧化实验平台 | 第15-19页 |
| ·电源系统 | 第15-18页 |
| ·实验材料及检测方法 | 第18-19页 |
| ·问题的提出 | 第19页 |
| ·触摸屏技术概述 | 第19-22页 |
| ·触摸屏技术的发展 | 第19-20页 |
| ·触摸屏的分类及优缺点 | 第20页 |
| ·电阻式触摸屏的工作原理 | 第20-21页 |
| ·触摸屏技术的工程应用现状 | 第21-22页 |
| ·课题意义及研究内容 | 第22-24页 |
| ·课题研究意义 | 第22-23页 |
| ·课题研究的内容 | 第23-24页 |
| 第2章 微弧氧化过程控制的研究 | 第24-34页 |
| ·不同电源模式下的微弧氧化过程 | 第24-28页 |
| ·直流电源下的微弧氧化 | 第24-25页 |
| ·单极性脉冲下的微弧氧化 | 第25-26页 |
| ·双极性脉冲模式下的微弧氧化 | 第26-28页 |
| ·镁合金微弧氧化过程控制的概念 | 第28页 |
| ·两种加载方案下微弧氧化过程的比较 | 第28-31页 |
| ·电压增量加载 | 第28-30页 |
| ·恒电流加载 | 第30-31页 |
| ·微弧氧化过程控制方案的提出 | 第31-33页 |
| ·本章小结 | 第33-34页 |
| 第3章 基于过程控制理论触摸屏界面的设计 | 第34-50页 |
| ·触摸屏的选择 | 第34-35页 |
| ·触摸屏界面的设计环境 | 第35-40页 |
| ·窗口 | 第35-36页 |
| ·事件登陆与资料取样 | 第36-39页 |
| ·索引寄存器的应用方法 | 第39-40页 |
| ·触摸屏工程界面的设计 | 第40-49页 |
| ·登陆界面的设计 | 第40页 |
| ·主界面的设计 | 第40-41页 |
| ·参数设定界面的设计 | 第41页 |
| ·电参数图形化显示界面的设计 | 第41-42页 |
| ·等效电阻图形化显示界面的设计 | 第42页 |
| ·现场监控与报警界面的设计 | 第42-44页 |
| ·历史资料显示界面的设计 | 第44-45页 |
| ·4阶段微弧氧化过程控制界面的设计 | 第45-47页 |
| ·其它界面的设计 | 第47-49页 |
| ·本章小结 | 第49-50页 |
| 第4章 基于MODBUS协议触摸屏与单片机的通信 | 第50-71页 |
| ·MODBUS协议概述 | 第50-53页 |
| ·主、从设备查询-回应格式 | 第50-51页 |
| ·传输方式 | 第51-53页 |
| ·错误检验方法 | 第53页 |
| ·硬件电路设计 | 第53-54页 |
| ·通讯软件设计 | 第54-71页 |
| ·MODBUS Sever的设定 | 第54页 |
| ·MODBUS RTU的地址说明 | 第54-55页 |
| ·通信方案及调试程序 | 第55-71页 |
| 结论 | 第71-72页 |
| 参考文献 | 第72-77页 |
| 致谢 | 第77-78页 |
| 附录A 攻读学位期间所发表的学术论文 | 第78页 |
