| 摘要 | 第1-9页 |
| Abstract | 第9-11页 |
| 第一章 绪论 | 第11-23页 |
| ·ZnO 的基本性质 | 第11-13页 |
| ·几种常见的 ZnO 基纳米结构 | 第13-16页 |
| ·一维 ZnO 基纳米线 | 第13-14页 |
| ·二维 ZnO 基薄膜 | 第14页 |
| ·三维 ZnO 基纳米壁网状结构 | 第14-16页 |
| ·ZnO 的制备方法和基本特点 | 第16-20页 |
| ·水热法 | 第16页 |
| ·溶胶凝胶法 | 第16-17页 |
| ·电化学沉积法 | 第17页 |
| ·化学气相沉积法 | 第17-18页 |
| ·脉冲激光沉积法 | 第18页 |
| ·激光烧蚀化学气相沉积法 | 第18-20页 |
| ·激光液相烧蚀法 | 第20页 |
| ·论文的选题依据和主要研究内容 | 第20-23页 |
| 第二章 实验部分 | 第23-31页 |
| ·实验原料与仪器设备 | 第23-24页 |
| ·材料制备 | 第24-27页 |
| ·激光烧蚀化学气相沉积（LACVD）系统 | 第24-26页 |
| ·脉冲激光沉积（PLD）系统 | 第26-27页 |
| ·ZnO 和 ZnMgO 纳米材料的制备 | 第27页 |
| ·表征方法 | 第27-31页 |
| ·场发射扫描电子显微镜（FESEM） | 第27页 |
| ·高分辨透射电子显微镜（HRTEM） | 第27-28页 |
| ·X 射线衍射（XRD） | 第28-29页 |
| ·光致发光谱（PL） | 第29页 |
| ·拉曼光谱（Raman） | 第29-31页 |
| 第三章 Zn(Mg)O 纳米棒的激光烧蚀 CVD 生长及荧光性能 | 第31-41页 |
| ·引言 | 第31-32页 |
| ·实验 | 第32-33页 |
| ·靶材制备和衬底清洗 | 第32-33页 |
| ·ZnO 和 Zn_(1-x)Mg_xO 纳米棒的制备 | 第33页 |
| ·材料表征 | 第33页 |
| ·结果与讨论 | 第33-39页 |
| ·温度和催化剂厚度对 ZnO 纳米棒生长的影响 | 第33-35页 |
| ·ZnO 纳米棒的生长机理分析 | 第35-37页 |
| ·Mg 掺杂对 Zn_(1-x)Mg_xO 形貌和光致发光性能的影响 | 第37-39页 |
| ·结论 | 第39-41页 |
| 第四章 脉冲激光沉积法生长 ZnO 薄膜缓冲层 | 第41-55页 |
| ·引言 | 第41页 |
| ·实验 | 第41-44页 |
| ·靶材制备和衬底清洗 | 第41-42页 |
| ·ZnO 薄膜缓冲层的制备 | 第42-43页 |
| ·材料表征 | 第43-44页 |
| ·结果与讨论 | 第44-54页 |
| ·生长气氛和压强对 ZnO 薄膜的影响 | 第44-48页 |
| ·不同温度和激光频率下 ZnO 薄膜的形貌演化 | 第48-51页 |
| ·ZnO 薄膜的晶体结构和荧光性质 | 第51-54页 |
| ·结论 | 第54-55页 |
| 第五章 利用激光烧蚀 CVD 法生长三维 Zn(Mg)O 纳米壁网状结构 | 第55-67页 |
| ·引言 | 第55-56页 |
| ·实验 | 第56-57页 |
| ·靶材的制备和衬底的清洗 | 第56页 |
| ·ZnO 和 Zn_(1-x)Mg_xO 纳米壁网状结构的制备 | 第56页 |
| ·材料表征 | 第56-57页 |
| ·结果与讨论 | 第57-65页 |
| ·Zn_(0.98)Mg_(0.02)O 纳米壁网状结构的形貌演化规律 | 第57-61页 |
| ·Zn_(1-x)Mg_xO 纳米壁网状结构的晶体结构和光致发光 | 第61-65页 |
| ·结论 | 第65-67页 |
| 第六章 结论 | 第67-69页 |
| 参考文献 | 第69-79页 |
| 致谢 | 第79-80页 |
| 附录 | 第80页 |
