| 摘要 | 第1-6页 |
| ABSTRACT | 第6-8页 |
| 目录 | 第8-11页 |
| 第一章 绪论 | 第11-26页 |
| ·研究背景 | 第11-12页 |
| ·太阳能电池 | 第12-15页 |
| ·太阳能电池的原理 | 第12-13页 |
| ·太阳能电池发展现状及趋势 | 第13-14页 |
| ·薄膜太阳能电池 | 第14-15页 |
| ·新概念电池 | 第15-16页 |
| ·CZTS薄膜电池的研究现状 | 第16-19页 |
| ·CZTS薄膜的制备方法 | 第16-18页 |
| ·脉冲激光沉积法(PLD)制备CZTS薄膜 | 第18-19页 |
| ·脉冲激光沉积的原理 | 第18页 |
| ·脉冲激光沉积的特点 | 第18-19页 |
| ·薄膜生长原理 | 第19-24页 |
| ·生长机理 | 第19-20页 |
| ·薄膜生长的三种方式 | 第20-21页 |
| ·薄膜生长的主要影响因素 | 第21-23页 |
| ·薄膜四种组织结构 | 第23-24页 |
| ·选题依据和研究内容 | 第24-26页 |
| 第二章 实验方法及过程 | 第26-31页 |
| ·实验材料 | 第26-27页 |
| ·实验设备 | 第27-29页 |
| ·实验方案 | 第29-30页 |
| ·薄膜制备工艺过程 | 第30页 |
| ·薄膜表征技术 | 第30-31页 |
| 第三章 脉冲激光沉积法制备CZTS薄膜 | 第31-58页 |
| ·脉冲激光能量对CZTS薄膜结构和表面形貌的影响 | 第31-35页 |
| ·脉冲激光能量对CZTS薄膜结构的影响 | 第31-32页 |
| ·脉冲激光能量对CZTS薄膜表面形貌的影响 | 第32-34页 |
| ·脉冲激光能量对CZTS薄膜表面形貌的影响 | 第32-34页 |
| ·不同能量条件下CZTS薄膜的EDS分析 | 第34-35页 |
| ·脉冲激光频率对CZTS薄膜结构和表面形貌的影响 | 第35-38页 |
| ·脉冲激光频率对CZTS薄膜的结构的影响 | 第35-37页 |
| ·脉冲激光频率对CZTS薄膜的SEM表面形貌的影响 | 第37-38页 |
| ·沉积时间对CZTS薄膜结构和表面形貌的影响 | 第38-41页 |
| ·沉积时间对CZTS薄膜的结构的影响 | 第38-39页 |
| ·沉积时间对CZTS薄膜的AFM表面形貌的影响 | 第39-41页 |
| ·退火时间对CZTS薄膜结构和表面形貌的影响 | 第41-44页 |
| ·退火时间对CZTS薄膜结构的影响 | 第41-42页 |
| ·退火时间对CZTS薄膜的AFM表面形貌影响 | 第42-44页 |
| ·退火温度对CZTS薄膜结构、表面形貌和性能的影响 | 第44-56页 |
| ·退火温度对CZTS薄膜结构的影响 | 第44-47页 |
| ·退火温度对CZTS薄膜形貌的影响 | 第47-49页 |
| ·300℃退火的CZTS薄膜的截面图 | 第47页 |
| ·不同退火温度的CZTS薄膜AFM表面形貌图 | 第47-49页 |
| ·退火温度对CZTS薄膜光学性能的影响 | 第49-54页 |
| ·退火温度对CZTS薄膜电学性能的影响 | 第54-56页 |
| ·CZTS薄膜的电阻率 | 第54-55页 |
| ·300℃退火的CZTS薄膜的Ⅳ特性 | 第55-56页 |
| ·本章小结 | 第56-58页 |
| 第四章 脉冲激光沉积法制备ZnO薄膜 | 第58-67页 |
| ·激光能量对ZnO薄膜结构和表面形貌的影响 | 第58-60页 |
| ·激光能量对ZnO薄膜结构影响 | 第58-59页 |
| ·激光能量对ZnO薄膜表面形貌的影响 | 第59-60页 |
| ·氧气分压对ZnO薄膜结构和表面形貌的影响 | 第60-62页 |
| ·氧气分压对ZnO薄膜结构的影响 | 第60-61页 |
| ·氧气分压对ZnO薄膜表面形貌的影响 | 第61-62页 |
| ·衬底温度对ZnO薄膜结构和表面形貌的影响 | 第62-63页 |
| ·衬底温度对ZnO薄膜结构的影响 | 第62页 |
| ·衬底温度对ZnO薄膜表面形貌的影响 | 第62-63页 |
| ·工艺参数对ZnO薄膜透过率的影响 | 第63-66页 |
| ·激光能量对ZnO薄膜透过率的影响 | 第63-64页 |
| ·氧气分压对ZnO薄膜透过率影响 | 第64-65页 |
| ·衬底温度对ZnO薄膜透过率的影响 | 第65-66页 |
| ·本章小结 | 第66-67页 |
| 第五章 结论 | 第67-68页 |
| 致谢 | 第68-69页 |
| 攻读硕士期间发表的学术论文目录 | 第69-70页 |
| 参考文献 | 第70-75页 |