| 摘要 | 第1-4页 |
| ABSTRACT | 第4-6页 |
| 目录 | 第6-9页 |
| 1 前言 | 第9-17页 |
| ·脱硫石膏 | 第9-11页 |
| ·脱硫石膏的定义 | 第9页 |
| ·脱硫石膏现状 | 第9-10页 |
| ·脱硫石膏主要产品现状 | 第10-11页 |
| ·α 半水石膏 | 第11-13页 |
| ·半水石膏特性 | 第11-12页 |
| ·高强石膏主要用途 | 第12-13页 |
| ·α 半水石膏的主要制备工艺 | 第13-14页 |
| ·石膏用外加剂现状 | 第14-15页 |
| ·石膏减水剂的国内外发展状况及作用机理 | 第14-15页 |
| ·石膏缓凝剂的发展状况及缓凝机理 | 第15页 |
| ·课题的提出及研究内容 | 第15-17页 |
| ·研究的提出 | 第15-16页 |
| ·主要研究内容 | 第16-17页 |
| 2 原材料及实验方法 | 第17-21页 |
| ·原材料 | 第17-18页 |
| ·α 半水脱硫石膏 | 第17页 |
| ·外加剂 | 第17-18页 |
| ·实验方法 | 第18-21页 |
| ·高强石膏标稠需水量和水化凝结时间的测定 | 第18页 |
| ·石膏硬化体强度（绝干强度）的测定 | 第18页 |
| ·石膏水化温升测定方法 | 第18页 |
| ·石膏水化率的测定 | 第18页 |
| ·扫描电镜实验 | 第18-19页 |
| ·石膏液相粒子含量的测定 | 第19页 |
| ·石膏硬化体孔结构测定 | 第19页 |
| ·XPS 光电子能谱 | 第19页 |
| ·石膏三相分析 | 第19-20页 |
| ·ζ 电位的测定 | 第20页 |
| ·紫外光谱测定外加剂的吸附量 | 第20页 |
| ·水化率计算 | 第20-21页 |
| 3 减水剂对 α 半水脱硫石膏水化硬化性能的影响 | 第21-31页 |
| ·减水剂与 α 半水脱硫石膏的适应性 | 第21页 |
| ·减水剂对 α 半水脱硫石膏扩展度及经时损失的影响 | 第21-24页 |
| ·减水剂对 α 半水脱硫石膏扩展度的影响 | 第21-22页 |
| ·减水剂对 α 半水脱硫石膏经时损失的影响 | 第22-23页 |
| ·α 半水石膏经时损失的抑制方法 | 第23-24页 |
| ·减水剂对 α 半水脱硫石膏水化进程的影响 | 第24-25页 |
| ·减水剂对 α 半水脱硫石膏水化温升的影响 | 第24页 |
| ·减水剂对 α 半水脱硫石膏水化率的影响 | 第24-25页 |
| ·减水剂对 α 半水脱硫石膏硬化体性能的影响 | 第25-30页 |
| ·减水对 α 半水脱硫石膏硬化体强度的影响 | 第25-27页 |
| ·减水剂对 α 半水脱硫石膏硬化体微观结构的影响 | 第27-28页 |
| ·减水剂对石膏硬化体的孔结构影响 | 第28-30页 |
| ·小结 | 第30-31页 |
| 4 减水剂的吸附特性与减水机理分析 | 第31-42页 |
| ·减水剂等温吸附特性 | 第31-34页 |
| ·减水剂等温吸附 | 第31-32页 |
| ·减水剂饱和吸附量的计算 | 第32-34页 |
| ·不同温度对减水剂吸附的影响 | 第34-35页 |
| ·减水剂在高强石膏表面吸附的 XPS 分析 | 第35-39页 |
| ·XPS 简介 | 第35-36页 |
| ·吸附层测试方法 | 第36页 |
| ·XPS 实验结果分析 | 第36-39页 |
| ·减水剂吸附对高强石膏液相体系 ζ 电位的影响 | 第39-40页 |
| ·不同减水剂对ζ电位的影响 | 第39页 |
| ·减水剂掺量对ζ电位的影响 | 第39-40页 |
| ·时间对ζ电位的影响 | 第40页 |
| ·减水剂作用机理研究 | 第40-41页 |
| ·小结 | 第41-42页 |
| 5 缓凝剂对 α 半水脱硫石膏凝结时间及水化进程的影响 | 第42-46页 |
| ·缓凝剂对 α 半水脱硫石膏凝结时间的影响 | 第42-43页 |
| ·缓凝剂对 α 半水脱硫石膏水化率的影响 | 第43-44页 |
| ·缓凝剂对 α 半水脱硫石膏水化温升的影响 | 第44页 |
| ·缓凝剂对 α 半水脱硫石膏强度的影响 | 第44-45页 |
| ·小结 | 第45-46页 |
| 6 缓凝剂对 α 半水脱硫石膏微结构影响及缓凝机理研究 | 第46-53页 |
| ·缓凝剂对 α 半水石膏晶体形貌的影响 | 第46-48页 |
| ·二水石膏的结晶习性 | 第46页 |
| ·缓凝剂对高强石膏硬化体微观形貌的影响 | 第46-48页 |
| ·缓凝剂对 α 半水脱硫石膏液相离子浓度的影响 | 第48-50页 |
| ·缓凝剂在 α 半水石膏表面的光电子能谱分析 | 第50-51页 |
| ·缓凝机理研究 | 第51-52页 |
| ·小结 | 第52-53页 |
| 7 结论 | 第53-54页 |
| 致谢 | 第54-55页 |
| 参考文献 | 第55-59页 |
| 附录 | 第59页 |
| 作者在攻读硕士学位期间发表的论文目录 | 第59页 |
