多晶硅纳米膜加速度传感器结构研究
| 摘要 | 第1-6页 |
| Abstract | 第6-10页 |
| 第一章 绪论 | 第10-18页 |
| ·MEMS硅微加速度传感器的现状 | 第10-14页 |
| ·几类加速度传感器的性能对比 | 第14-15页 |
| ·本文设计的加速度传感器的应用 | 第15-16页 |
| ·加速度传感器的主要设计指标 | 第16-17页 |
| ·本文的主要研究工作 | 第17页 |
| ·本章小结 | 第17-18页 |
| 第二章 压阻式加速度传感器结构设计 | 第18-31页 |
| ·压阻式加速度传感器的缺点 | 第18-19页 |
| ·超薄微梁加速度传感器结构与工作原理 | 第19-20页 |
| ·超薄微梁加速度传感器结构设计 | 第20-28页 |
| ·质量块和主悬臂梁设计 | 第20-21页 |
| ·微梁设计 | 第21-26页 |
| ·微梁三层结构仿真 | 第26-28页 |
| ·加速度传感器的特性分析 | 第28-30页 |
| ·本章小结 | 第30-31页 |
| 第三章 应变电阻设计 | 第31-37页 |
| ·多晶硅纳米薄膜的特性 | 第31-32页 |
| ·应变电阻设计 | 第32-34页 |
| ·应变电阻尺寸设计 | 第32-33页 |
| ·电阻布局 | 第33-34页 |
| ·压阻全桥原理 | 第34-36页 |
| ·传感器输出灵敏度 | 第36页 |
| ·本章小结 | 第36-37页 |
| 第四章 加速度传感器工艺流程设计 | 第37-46页 |
| ·加速度传感器芯片工艺流程 | 第37-41页 |
| ·多晶硅薄膜、氧化硅薄膜的制备 | 第41-43页 |
| ·低压化学气相淀积 | 第41-42页 |
| ·多晶硅纳米膜的制备 | 第42页 |
| ·氮化硅钝化膜的制备 | 第42-43页 |
| ·掺杂技术 | 第43页 |
| ·反应离子刻蚀 | 第43-44页 |
| ·深度反应离子刻蚀 | 第44-45页 |
| ·本章小结 | 第45-46页 |
| 第五章 结论 | 第46-47页 |
| 参考文献 | 第47-49页 |
| 附录A有限元分析语句 | 第49-59页 |
| 附录B 加速度芯片版图 | 第59-62页 |
| 在学研究成果 | 第62-63页 |
| 致谢 | 第63页 |
